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一种基于双光栅莫尔条纹的检焦装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201310162595.6
IPC分类号：G03F7/20;G01B11/14
申请日期：
2013-05-06
申请人：
中国科学院光电技术研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种基于双光栅莫尔条纹的检焦装置
申请号	CN201310162595.6	申请日期	2013-05-06
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2013-07-24	公开/公告号	CN103217873A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;B;1;1;/;1;4查看分类表>
申请人	中国科学院光电技术研究所	申请人地址	四川省成都市双流350信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院光电技术研究所	当前权利人	中国科学院光电技术研究所
发明人	邸成良;严伟;胡松;朱江平;王楠;蒋薇
代理机构	北京科迪生专利代理有限责任公司	代理人	成金玉;贾玉忠

摘要

本发明涉及一种基于双光栅莫尔条纹的检焦装置，包括入射光束、扩束透镜、物光栅、楔形板、4f投影系统、斜方棱镜、检测光栅和探测器。入射光经过扩束透镜垂直投射到物光栅上，4f系统将物光栅像与检测光栅耦合在一起形成莫尔条纹，通过检测莫尔条纹的移动可以得到硅片的高度。其中双楔形镜配合可以补偿两个光栅成像时的倾斜。本发明实现了高精度、非接触测量硅片的离焦量测量。

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