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MOS晶体管及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810202962.X
  • IPC分类号:H01L21/8234;H01L21/336;H01L27/04;H01L29/78
  • 申请日期:
    2008-11-18
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称MOS晶体管及其制作方法
申请号CN200810202962.X申请日期2008-11-18
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2010-06-16公开/公告号CN101740514A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8234
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;7;/;0;4;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人赵猛
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人李丽
摘要
一种MOS晶体管及其制作方法,其中MOS晶体管的制作方法包括:提供半导体衬底,半导体衬底内的有源区包括MOS晶体管的沟道区域;在半导体衬底的有源区内引入第一离子,形成隔离阱;在半导体衬底的有源区内引入第二离子,以调整待形成的MOS晶体管的阈值电压;在MOS晶体管的沟道区域内引入碳离子,所述引入碳离子步骤在引入第一离子之前或者之后、或者在引入第二离子之前或者之后进行。相应地,本发明还提供采用上述制作方法制作的MOS晶体管。本发明通过在MOS晶体管的沟道区域内引入碳离子,阻止后续在MOS晶体管的沟道区域内注入的离子在后续的氧化形成栅介质层工艺中扩散,从而达到抑制瞬态增强扩散效应目的。

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