加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

离子植入波束角校准

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200680044826.1
  • IPC分类号:H01J37/304;H01J37/317
  • 申请日期:
    2006-11-17
  • 申请人:
    艾克塞利斯技术公司
著录项信息
专利名称离子植入波束角校准
申请号CN200680044826.1申请日期2006-11-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-12-03公开/公告号CN101317245
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/304IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;0;4;;;H;0;1;J;3;7;/;3;1;7查看分类表>
申请人艾克塞利斯技术公司申请人地址
美国马萨诸塞州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人艾克塞利斯技术公司当前权利人艾克塞利斯技术公司
发明人R·雷斯梅尔;D·卡门尼塞
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人张雪梅;张志醒
摘要
本发明的一个或更多个方面是关于确定介于离子束和欲由该离子束选择性地植入离子至其中的工件的晶格结构之间的相对方位,以及按照该相对方位来校准离子植入系统。至少部分地通过导引发散离子束于工件上并寻找基本平行于该工件的晶体平面植入离子的该发散束的方面的角度来确定该波束至晶格结构方位,因此对该晶格结构造成小量损害。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供