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存储器及其形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010208500.X
  • IPC分类号:H01L27/108;H01L23/528;H01L21/768;H01L21/8242
  • 申请日期:
    2020-03-23
  • 申请人:
    福建省晋华集成电路有限公司
著录项信息
专利名称存储器及其形成方法
申请号CN202010208500.X申请日期2020-03-23
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2020-09-08公开/公告号CN111640755A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/108IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;0;8;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;8;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;2查看分类表>
申请人福建省晋华集成电路有限公司申请人地址
福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人福建省晋华集成电路有限公司当前权利人福建省晋华集成电路有限公司
发明人赖惠先;童宇诚;林昭维;朱家仪
代理机构上海思捷知识产权代理有限公司代理人王宏婧
摘要
本发明提供了一种存储器及其形成方法。将字线的端部延伸至周边区中,并将接触插塞形成在周边区中以和字线的端部电性连接。如此一来,不仅可以充分利用周边区的空间,并且在周边区中制备接触插塞,还有利于增大各个接触插塞的尺寸,有效降低接触插塞的制备难度,相应的提高了接触插塞和字线之间的连接性能。

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