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像差补偿装置和方法、光刻投影物镜及其像差补偿方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710714211.5
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-08-18
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称像差补偿装置和方法、光刻投影物镜及其像差补偿方法
申请号CN201710714211.5申请日期2017-08-18
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-03-01公开/公告号CN109407469A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人张羽;侯宝路;郭银章
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人暂无
摘要
本发明公开了一种像差补偿装置和方法、光刻投影物镜及其像差补偿方法,该像差补偿装置用于对一光学成像系统进行像差补偿和校正,所述像差补偿装置包括磁流变液反射镜、用于调整所述磁流变液反射镜的磁场发生装置、波前探测器及与所述波前探测器连接的计算机控制器,所述波前探测器和磁流变液反射镜沿光路依次设置在所述光学成像系统中。本发明通过设置磁流变液反射镜,其通过改变磁流变液中磁体的位置改变反射镜面型,以实现对像质的补偿,并且可以在补偿所有像差的同时不引起任何像差的增加;本发明选择磁流变液反射镜,可以通过调整磁流变液中磁体的位置改变反射镜的形状,进而生成任何新的高阶Zernike补偿面型,无串扰影响。

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