可见光敏聚合引发体系的方酸染料/六芳基双咪唑复合物

发明专利无效专利

申请号：
CN200510038910.X
IPC分类号：C08F2/50;C08F20/00;C08F18/08;C08F26/10
申请日期：
2005-04-18
申请人：
常州华钛化学有限公司

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专利名称	可见光敏聚合引发体系的方酸染料/六芳基双咪唑复合物
申请号	CN200510038910.X	申请日期	2005-04-18
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2006-02-01	公开/公告号	CN1727365
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08F2/50 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08F 仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物（由低碳烃制造液态烃混合物，例如通过齐聚作用入C10G 50/00；发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P；含有碳-碳不饱和键的单体接枝聚合到纤维、丝线、纱线、织物或用这些材料制成的纤维制品入D06M 14/00）〔2〕 C08F2/00 聚合工艺过程〔2〕 C08F2/46 波能或粒子辐射引发的聚合作用〔2〕 C08F2/48 用紫外光或可见光〔2〕 C08F2/50 带光敏剂〔2〕	IPC分类号	C;0;8;F;2;/;5;0;;;C;0;8;F;2;0;/;0;0;;;C;0;8;F;1;8;/;0;8;;;C;0;8;F;2;6;/;1;0查看分类表>
申请人	常州华钛化学有限公司	申请人地址	江苏省金坛市朱林大街8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	常州华钛化学有限公司	当前权利人	常州华钛化学有限公司
发明人	徐俊伟;黄建;邓爱斌
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明属于感光高分子材料领域，特别是涉及可见光敏聚合新型复合引发剂方酸染料(I)/六芳基双咪唑(II)复合物及其用途。复合物是由方酸染料(I)和六芳基双咪唑(II)以六芳基双咪唑的重量是方酸染料重量的1～10倍，在溶剂中通过静电相互作用和偶极相互作用形成的；方酸染料/六芳基双咪唑复合物能作为烯类单体可见光光聚合的引发剂或作为光固化涂层材料、光刻材料、光成像材料、全息记录材料、光学材料以及三维造型材料可见光光固化的引发剂。

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