加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810731625.3
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-07-05
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置
申请号CN201810731625.3申请日期2018-07-05
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-01-14公开/公告号CN110687752A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人赵丹平;杨志斌;罗晋
代理机构北京品源专利代理有限公司代理人孟金喆
摘要
本发明公开了湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置。此湿空气制备装置包括:水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元;其中,水供给单元、空气供给单元以及电场供给单元分别与雾化腔室单元连接;水供给单元用于向雾化腔室单元供给水;电场供给单元用于向雾化腔室单元供电,使雾化腔室单元中形成电场,使水电离雾化;空气供给单元用于向雾化腔室单元中供给压缩空气,压缩空气与雾化后的水在雾化腔室单元中混合,共同形成湿空气;雾化腔室单元包括出气口,出气口用于将形成的湿空气输出,输出的湿空气用于浸没式光刻装置。本发明的技术方案可制备超洁净湿空气,减缓光刻装置中浸没液蒸发速率,增强位置测量单元的抗干扰性能。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供