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基板处理装置及基板处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210337344.2
  • IPC分类号:H01L21/67
  • 申请日期:
    2012-09-12
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置及基板处理方法
申请号CN201210337344.2申请日期2012-09-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-04-03公开/公告号CN103021906A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/67IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人榎木田卓;中原田雅弘;宫田亮;木山秀和;饭田成昭
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;张会华
摘要
本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有承载区,其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部;处理区,其具有将多个层部分上下配置而成的层构造,并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件;塔单元,其含有多个基板载置部,该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置;第1基板移载机构,其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板;第2基板移载机构,其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。

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