一种用于提供探头对准的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200580020566.X
IPC分类号：G01R3/00
申请日期：
2005-06-21
申请人：
卡普雷斯股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种用于提供探头对准的方法
申请号	CN200580020566.X	申请日期	2005-06-21
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2007-05-30	公开/公告号	CN1973208
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01R3/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01R 测量电变量；测量磁变量（指示谐振电路的正确调谐入H03J 3/12） G01R3/00 专门用于制造测量仪器的设备或方法	IPC分类号	G;0;1;R;3;/;0;0查看分类表>
申请人	卡普雷斯股份有限公司	申请人地址	丹麦灵比市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	卡普雷斯股份有限公司	当前权利人	卡普雷斯股份有限公司
发明人	彼得·福尔默·尼耳森;彼得·R·E·彼得森;杰斯波·阿德曼·汉森
代理机构	北京安信方达知识产权代理有限公司	代理人	颜涛;郑霞

摘要

一种用于提供探头相对于支撑衬底对准的方法，包括的步骤为：提供限定平面表面和边缘的所述支撑衬底，所述衬底进一步限定第一晶体平面；在所述支撑衬底所述表面上提供第一掩模，所述第一掩模在所述边缘所述表面上限定第一外露区域；以及提供特定的刻蚀剂、通过所述刻蚀剂蚀刻所述第一外露区域形成的凹穴，所述凹穴限定第一侧壁、相对的第二侧壁、远离所述边缘的端壁和底壁。该方法还包括提供限定平面表面和与所述第一晶体平面相同的第二晶体平面的探头衬底；使所述探头衬底定位，从而当使用特定的刻蚀剂由所述探头衬底形成探头时使所述第一和第二晶体平面相同定位，所述探头把全等的表面限定到所述第一侧壁和第二侧壁上。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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