一种半导体器件氢效应定量评价系统及方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010621597.7
IPC分类号：G01R31/26
申请日期：
2020-06-30
申请人：
中国空间技术研究院

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专利名称	一种半导体器件氢效应定量评价系统及方法
申请号	CN202010621597.7	申请日期	2020-06-30
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-11-17	公开/公告号	CN111948506A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01R31/26 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01R 测量电变量；测量磁变量（指示谐振电路的正确调谐入H03J 3/12） G01R31/00 电性能的测试装置；电故障的探测装置；以所进行的测试在其他位置未提供为特征的电测试装置（在制造过程中测试或测量半导体或固体器件入H01L 21/66；线路传输系统的测试入H04B 3/46） G01R31/26 单个半导体器件的测试（在制造或处理过程中的测试或测量入H01L 21/66；光伏器件的测试入H02S 50/10）〔2，2014.01〕	IPC分类号	G;0;1;R;3;1;/;2;6查看分类表>
申请人	中国空间技术研究院	申请人地址	北京市海淀区友谊路104号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国空间技术研究院	当前权利人	中国空间技术研究院
发明人	吴照玺;段超;丁鸷敏;孟猛;贾晓;谢晨明;王小青;王旭;郑雪峰
代理机构	中国航天科技专利中心	代理人	任林冲

摘要

本发明涉及一种半导体器件氢效应定量评价系统，包括气体预混合模块、样品试验模块、气体成分分析模块、真空保持模块和控制模块，气体预混合模块包括金属腔体、流量控制阀门、程控阀门和紊流机构，金属腔体为方形腔体，左右两个面上预留螺纹孔，用于安装流量控制阀门和阀门，紊流结构连接在金属腔体侧壁，位于流量控制阀门和程控阀门之间，对从流量控制阀门通入的气体充分混合。本发明中样品试验模块中的气体可以在试验过程中不断补充，保持氢气浓度恒定，确保试验样品处于稳定的氢气浓度中，进而确保氢效应评价结果准确。

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