等离子体处理装置和等离子体处理方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310616729.7
IPC分类号：H01J37/32
申请日期：
2013-11-27
申请人：
东京毅力科创株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	等离子体处理装置和等离子体处理方法
申请号	CN201310616729.7	申请日期	2013-11-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-06-04	公开/公告号	CN103839748A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	吹野康彦;丸山智久
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供能够不使用整流壁或自由基消耗量多的牺牲件，而使被处理基板的周边部的反应性降低以进行均匀的等离子体处理的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置具备：用于收容基板（G）、对该基板（G）实施等离子体处理的处理容器（2）；在处理容器（2）内载置基板（G）的基板载置台（4）；对处理容器内供给处理气体的处理气体供给机构（20、28）；对处理容器（2）内进行排气的排气机构（30）；作为在处理容器（2）内生成处理气体的等离子体的等离子体源的高频电源（14a）；和向基板载置台（4）上的基板（G）的周边部供给捕获气体的捕获气体供给机构（16、19），该捕获气体捕获等离子体中的活性种。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供