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一种电致发光器件及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610368075.4
  • IPC分类号:H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
  • 申请日期:
    2016-05-27
  • 申请人:
    纳晶科技股份有限公司
著录项信息
专利名称一种电致发光器件及其制作方法
申请号CN201610368075.4申请日期2016-05-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-09-28公开/公告号CN105977393A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/50IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;2;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人纳晶科技股份有限公司申请人地址
浙江省杭州市滨江区秋溢路500号1幢4楼405-407室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人纳晶科技股份有限公司当前权利人纳晶科技股份有限公司
发明人甄常刮;陈超
代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)代理人汤东凤
摘要
本发明公开一种电致发光器件及其制作方法。该电致发光器件包括具有透射性的第一电极层、具有反射性的第二电极层以及设置在第一电极层和第二电极层之间的发光层,还包括与所述第二电极层相邻的第二电极层接触层,所述第二电极层与所述第二电极层接触层之间的接触面是粗糙面。本发明直接将电致发光器件中的第二电极层与第二电极层接触层之间的接触面(即反射面)设置成粗糙面,粗糙面上布满无数的凹陷和凸起,无论是凹陷还是凸起,表面等离子体波都只在其轮廓线的切线方向传播,这就使得表面等离子体波的传播受到限制,表面等离子体波的传播距离被大大缩短,从而有效降低反射光能量衰减程度。

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