遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图

发明专利有效专利

申请号：
CN202110254749.9
IPC分类号：G06F30/392;G06F30/398;G06F111/20
申请日期：
2021-03-05
申请人：
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图
申请号	CN202110254749.9	申请日期	2021-03-05
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-11	公开/公告号	CN112949242A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06F30/392	IPC分类号	G;0;6;F;3;0;/;3;9;2;;;G;0;6;F;3;0;/;3;9;8;;;G;0;6;F;1;1;1;/;2;0查看分类表>
申请人	深圳市华星光电半导体显示技术有限公司	申请人地址	广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市华星光电半导体显示技术有限公司	当前权利人	深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人	王悦
代理机构	深圳紫藤知识产权代理有限公司	代理人	远明

摘要

本申请实施例公开了一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图。遮光带版图绘制方法包括：获取遮光带版图的绘制配置信息，绘制配置信息包括绘制原始版图标识、遮光带版图的绘制范围的尺寸信息；调用版图数据库，版图数据库包括至少一绘制原始版图和与绘制原始版图对应的绘制原始版图标识；根据绘制原始版图标识在版图数据库中确定绘制原始版图；根据绘制原始版图设定第一空心阵列组；根据第一空心阵列组、绘制范围的尺寸信息确定绘制范围；根据第一空心阵列组和绘制范围生成遮光带版图。本申请实施例可以自动化快速绘制遮光带版图，减小了现有遮光带版图绘制中的繁琐步骤。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供