曝光方法和曝光设备

发明专利无效专利

申请号：
CN96112248.X
IPC分类号：--
申请日期：
1996-07-28
申请人：
日本电气株式会社

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	曝光方法和曝光设备
申请号	CN96112248.X	申请日期	1996-07-28
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	1997-06-11	公开/公告号	CN1151535
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	日本电气株式会社	申请人地址	日本神奈川县川崎市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	恩益禧电子股份有限公司	当前权利人	恩益禧电子股份有限公司
发明人	手塚达郎
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	张志醒;王岳

摘要

一种曝光设备和方法，可优化光致抗蚀剂膜的曝光，而与光致抗蚀剂膜因曝光而发生的化学反应无关。利用第1光致抗蚀剂膜和第1半导体片测量最佳曝光，并将获得的数据存到存储器中。然后用相同的曝光对第2半导体片上的第2光致抗蚀剂膜曝光，测量开始曝光时由第2光致抗蚀剂膜和第2半导体片的反射光强。读出存储的第1光致抗蚀剂膜和第1半导体片的最佳曝光时间数据，将它用作第2光致抗蚀剂膜和第2半导体片的最佳曝光时间。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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