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半导体发光器件和制造该半导体发光器件的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200880100742.4
  • IPC分类号:H01L33/00
  • 申请日期:
    2008-07-25
  • 申请人:
    LG伊诺特有限公司
著录项信息
专利名称半导体发光器件和制造该半导体发光器件的方法
申请号CN200880100742.4申请日期2008-07-25
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2010-06-30公开/公告号CN101765924A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/00IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人LG伊诺特有限公司申请人地址
江苏省苏州市太仓市常胜北路168号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州乐琻半导体有限公司当前权利人苏州乐琻半导体有限公司
发明人尹浩相;沈相均
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人李春晖;李德山
摘要
提供了一种半导体发光器件和制造该半导体发光器件的方法。该半导体发光器件包括:发射电子的第一半导体层、发射空穴的第二半导体层以及通过电子和空穴的复合来发光的有源层。各层中的至少一层包括光增强型少数载流子。

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