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利用等离子体在柔性基片上沉积薄膜

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201480025540.3
  • IPC分类号:C23C16/50;C23C16/52
  • 申请日期:
    2014-05-01
  • 申请人:
    路特斯应用技术有限责任公司;凸版印刷有限公司
著录项信息
专利名称利用等离子体在柔性基片上沉积薄膜
申请号CN201480025540.3申请日期2014-05-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-01-06公开/公告号CN105229199A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/50IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;5;0;;;C;2;3;C;1;6;/;5;2查看分类表>
申请人路特斯应用技术有限责任公司;凸版印刷有限公司申请人地址
美国俄勒冈州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人路特斯应用技术有限责任公司,凸版印刷有限公司当前权利人路特斯应用技术有限责任公司,凸版印刷有限公司
发明人艾瑞克·R·迪基
代理机构北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘云贵;王东
摘要
用于在柔性基片(102)上沉积薄膜的系统(100),包括由分隔带(110)分隔开的多个处理区(104,106,108),等离子体发生器(130)用于在通道近侧产生等离子体区(132),基片沿通道移动;当系统运行时,用于引导基片在处理区之间来回移动的基片传输装置(128)将基片运输到并暴露在等离子体区。

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