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一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201621485710.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2016-12-31
  • 申请人:
    合肥芯碁微电子装备有限公司
著录项信息
专利名称一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置
申请号CN201621485710.9申请日期2016-12-31
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人合肥芯碁微电子装备有限公司申请人地址
安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人合肥芯碁微电子装备股份有限公司当前权利人合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人王历先;项宗齐
代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙)代理人宋倩;奚华保
摘要
本实用新型提供一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置,包括沿吸盘组件的径向开设的第一滑槽和第二滑槽,所述第一滑槽至吸盘组件圆心的延长线与第二滑槽至吸盘组件圆心的延长线相互垂直,所述第一滑槽和第二滑槽上均安装有自动定位组件,所述自动定位组件包括电动位移滑台以及安装在电动位移滑台上的定位块,所述定位块的上表面高于吸盘组件的上表面。本实用新型适用于所有标准尺寸衬底及非标准尺寸衬底的吸盘定位,且定位调节能够实现自动控制,具有结构简单、调节简便、定位精确、兼容性强的特点。

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