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一种高介低线宽微波旋磁铁氧体材料及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202211117935.9
  • IPC分类号:C04B35/40;C04B35/622;C04B35/645;H01F1/01
  • 申请日期:
    2022-09-14
  • 申请人:
    电子科技大学
著录项信息
专利名称一种高介低线宽微波旋磁铁氧体材料及其制备方法
申请号CN202211117935.9申请日期2022-09-14
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2022-11-25公开/公告号CN115385680A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/40IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;4;0;;;C;0;4;B;3;5;/;6;2;2;;;C;0;4;B;3;5;/;6;4;5;;;H;0;1;F;1;/;0;1查看分类表>
申请人电子科技大学申请人地址
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子科技大学当前权利人电子科技大学
发明人苏桦;梁吉;杨钊;荆玉兰;李元勋
代理机构电子科技大学专利中心代理人闫树平
摘要
本发明属于电子材料技术领域,具体涉及一种高介低线宽微波旋磁铁氧体材料及其制备方法。本发明通过严格控制Bi离子在YIG旋磁铁氧体中的替代量在12.5~13.5之间,再通过Gd、V、Ca、Zr等离子的复合替代,以及二次球磨时的H3BO3和WO3微量掺杂,并在工艺上引入了热等静压的工艺,最终制备出4πMs为1838~1850Gs,介电常数27~31,铁磁共振线宽≤20Oe的高介低线宽旋磁铁氧体材料。本发明让旋磁铁氧体材料高介电常数和低铁磁共振线宽的兼具成为可能,为微波铁氧体器件的进一步小型化提供了基础。

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