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增强无机介质与铜的粘附性的等离子体处理

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN99126150.X
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1999-12-13
  • 申请人:
    国际商业机器公司
著录项信息
专利名称增强无机介质与铜的粘附性的等离子体处理
申请号CN99126150.X申请日期1999-12-13
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2000-07-12公开/公告号CN1259762
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人国际商业机器公司申请人地址
美国纽约州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人国际商业机器公司当前权利人国际商业机器公司
发明人P·D·阿涅洛;L·P·布赫瓦特;J·胡梅尔;B·卢瑟;A·K·斯塔帕
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人杨凯;陈景峻
摘要
本发明提供一种促进在铜互连结构上形成的无机阻挡膜的粘附性的方法,其特征在于,所述方法包括下述步骤:将至少包含一层铜的互连半导体结构暴露于还原性等离子体中;以及在所述被暴露的铜互连结构上形成无机阻挡膜。

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