清洗处理多功能旋转反应釜

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201920720071.7
IPC分类号：B01J19/18;B01J19/00;B08B9/087
申请日期：
2019-05-17
申请人：
深圳市华尔利泰电子科技有限公司

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著录项信息

专利名称	清洗处理多功能旋转反应釜
申请号	CN201920720071.7	申请日期	2019-05-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B01J19/18 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B01 一般的物理或化学的方法或装置 B01J 化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备〔2〕 B01J19/00 化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备〔3，2006.01〕 B01J19/18 具有内部移动元件的固定式反应器（B01J 19/08，B01J 19/26优先）〔3〕	IPC分类号	B;0;1;J;1;9;/;1;8;;;B;0;1;J;1;9;/;0;0;;;B;0;8;B;9;/;0;8;7查看分类表>
申请人	深圳市华尔利泰电子科技有限公司	申请人地址	广东省深圳市宝安区松岗街道象山大道225号二楼左、三、四层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市华尔利泰电子科技有限公司	当前权利人	深圳市华尔利泰电子科技有限公司
发明人	郑威;李锦干;徐华毕
代理机构	深圳正和天下专利代理事务所（普通合伙）	代理人	杨波

摘要

本实用新型涉及一种清洗处理多功能旋转反应釜，包括筒状的反应釜体、以及供反应釜体可转动安装的机架。反应釜体的转动轴线水平，反应釜体内形成有清洗腔。清洗腔的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件定位放置的支撑结构，以在反应釜体转动时，清洗腔内的清洗液对支撑结构上的待清洗电子元器件进行清洗。带有硅片等可回收材料的待清洗电子元器件可以提前放置固定到反应釜体内，在反应釜体转动时，反应釜体内的清洗液处理电子器件表面杂质，让待清洗电子元器件表面的杂质被清洗液自动清洗干净，使得得到干净的电子元器件，利于电子元器件的回收利用，清洗过程实现了批量自动化，提升了回收效率，降低了成本，能满足电子元器件回收利用的生产要求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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