一种修正氧化孔径的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110050486.X
IPC分类号：H01S5/183
申请日期：
2021-01-14
申请人：
深圳市德明利光电有限公司

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著录项信息

专利名称	一种修正氧化孔径的方法
申请号	CN202110050486.X	申请日期	2021-01-14
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2021-05-28	公开/公告号	CN112864805A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01S5/183 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01S 利用受激发射的器件 H01S5/00 半导体激光器〔7〕 H01S5/10 光学谐振腔的结构或形状〔7〕 H01S5/18 面发射〔SE〕激光器〔7〕 H01S5/183 具有垂直腔的〔VCSE-激光器〕〔7〕	IPC分类号	H;0;1;S;5;/;1;8;3查看分类表>
申请人	深圳市德明利光电有限公司	申请人地址	广东省深圳市福田区福保街道福保社区红柳道2号顺丰工业厂房1层B125 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市德明利光电有限公司	当前权利人	深圳市德明利光电有限公司
发明人	方照诒
代理机构	深圳市道勤知酷知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	何兵;吕诗

摘要

本发明涉及一种修正氧化孔径的方法，氧化孔未经修正直接氧化后在某一晶面方向的俯视图呈类等腰三角形，所述方法包括：在侧向氧化之前，对圆形台面结构的晶面快速氧化方向上的侧壁进行镀膜、沉积或保留原来外延材料形成扩散障碍层，补偿修正侧壁各方向氧化速率的差异，补偿修正角度为以未经修正的原类等腰三角形孔径三个边方向；对已具有扩散障碍层的台面结构侧壁进行扩散及氧化，形成氧化孔。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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