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阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410602733.2
  • IPC分类号:H01L27/32
  • 申请日期:
    2014-10-31
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置
申请号CN201410602733.2申请日期2014-10-31
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-03-04公开/公告号CN104393017A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/32IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人刘政;陆小勇;李小龙;刘建宏;龙春平
代理机构北京三高永信知识产权代理有限责任公司代理人腾一斌
摘要
本发明提供了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置,该阵列基板的制作方法包括:在衬底基板上方形成第一金属薄膜;对所述第一金属薄膜进行图案化处理,在所述衬底基板的第一区域上方形成阴极的图形,在所述衬底基板的第二区域上方形成栅极的图形。本发明通过一次构图工艺将发光二极管的阴极层与薄膜晶体管的栅极层同时形成在衬底基板的不同区域,能够减少阵列基板制作工艺的复杂度和工艺时间,简化有机电致发光面板的制作工序,降低制作成本。

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