涂敷膜形成装置及涂敷膜形成方法

1.一种涂敷膜形成装置，所述涂敷膜形成装置一边沿一个方向运 送基板，一边将规定的涂敷液供给至所述基板，从而形成涂敷膜，其 特征在于，所述装置具有：
设置有用于在表面的规定位置喷射规定气体的多个气体喷射口的 台；
在所述台上沿一个方向运送基板的基板运送机构；
将规定的涂敷液供给至在所述台上移动的基板的表面上的涂敷液 供给喷嘴，
所述基板，通过从所述气体喷射口喷射气体，以大致水平姿势地 从所述台的表面向上浮起的状态，通过所述基板运送机构来运送。
2.如权利要求1所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
所述台具有：
从所述涂敷液供给喷嘴供给涂敷液的涂敷台部；
用于将基板运入所述涂敷台部的导入台部；
用于从所述涂敷台部运出基板的运出台部，
所述涂敷台部还在其表面的规定位置具有吸气口，
在所述涂敷台部上，通过调整来自所述气体喷射口的气体喷射量 和来自所述吸气口的气体吸气量，调节所运送的基板的向上浮起的高 度。
3.如权利要求1或2所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
所述基板运送机构具有：
保持基板的保持部件；和
沿规定方向移动所述保持部件的滑动机构，
所述保持部件将基板吸附保持在与基板运送方向正交的方向的两 端附近。
4.如权利要求3所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
所述装置具备2组所述保持部件，
所述滑动机构交互地将基板运送到所述2组保持部件。
5.如权利要求1或权利要求2所述的涂敷膜形成装置，其特征在 于，
所述基板运送机构具有：
保持基板的保持部件；
沿规定方向移动所述保持部件的滑动机构，
所述保持部件将基板吸附保持在与基板运送方向正交的方向的一 端。
6.如权利要求5所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
以可以分别独立地在与基板运送方向正交的方向的两侧驱动的方 式配置所述保持部件，
所述滑动机构交互地将基板运送到各保持部件。
7.如权利要求1或2所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
所述装置还具有：
设置在所述台的基板运送方向下游侧，对在所述基板上形成的涂 敷膜进行减压来干燥的减压干燥装置；
从所述保持部件接受运送到所述运出台部的基板，并将其运送到 所述减压干燥装置的其他基板运送机构。
8.如权利要求1或2所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
所述涂敷液供给喷嘴具有沿与基板运送方向正交的方向延伸，且 以带状喷出涂敷液的缝隙状涂敷液喷出口。
9.如权利要求8所述的涂敷膜形成装置，其特征在于，
所述装置还具有：
测定在所述涂敷液供给喷嘴的正下方移动的基板表面和所述涂敷 液供给喷嘴的涂敷液喷出口之间的距离的传感器；
根据所述传感器的测量值升降所述涂敷液供给喷嘴，使得所述涂 敷液供给喷嘴配置在规定的高度位置的喷嘴升降机构。
10.一种涂敷膜形成方法，一边沿一个方向运送基板，一边将涂 敷液供给至所述基板，从而形成涂敷膜，其特征在于，所述方法包括：
保持基板的周边的一部分，将所述基板以大致水平姿势浮在从表 面喷出规定气体的台上面的工序；和
一边将所述基板维持在向上浮起的状态地在所述台上沿一个方向 运送，一边向所述基板供给规定的涂敷液来形成涂敷膜的工序。
11.如权利要求10所述的涂敷膜形成方法，其特征在于，
在向基板供给涂敷液期间，当从所述台的表面喷射所述气体时， 同时进行从所述台表面的吸气，由此，调整所述基板从所述台向上浮 起的高度。
12.如权利要求10或11所述的涂敷膜形成方法，其特征在于，
通过多个可以独立驱动的基板运送机构，连续地进行所述基板的 运送。
13.如权利要求10或11所述的涂敷膜形成方法，其特征在于，
以沿与所述基板运送方向垂直的方向延伸的大致带状地向所述基 板供给所述涂敷液。

技术领域\n本发明涉及一种在用于液晶显示装置(LCD)等的FPD(平板显 示器)的玻璃基板等基板上，供给涂敷液而形成涂敷膜的涂敷膜形成 装置以及涂敷膜形成方法。\n背景技术\n例如，在液晶显示装置(LCD)的制造工序中，使用光刻技术， 从而在玻璃基板上形成规定的电路图形。换言之，在玻璃基板上供给 抗蚀剂而形成涂敷膜，并在对其进行干燥、热处理后，顺次进行曝光 处理、显影处理。\n这里，作为将抗蚀剂液供给玻璃基板而形成涂敷膜的装置，已知 一种具有水平地真空吸附玻璃基板的载置台、向保持在该载置台上的 基板供给抗蚀剂液的抗蚀剂供给喷嘴、和沿水平方向相对地移动载置 台和抗蚀剂供给喷嘴的移动机构的涂敷膜形成装置(例如，参照专利 文献1)。\n但是，由于使LCD用的玻璃基板的厚度很薄，故存在设置在载置 台上的吸气孔被转写在玻璃基板的表面上的问题。此外，还存在在基 板的背面附着很多粒子的问题。而且，由于在基板与载置台的脱离上 需要规定的时间，所以更不用说高生产率。另外，由于因近年来伴随 着玻璃基板的大型化，产生载置台和抗蚀剂供给喷嘴的大型化，相对 移动它们的移动机构的结构也变得规模很大，所以更需要以用尽可能 简单的结构移动基板。\n发明内容\n本发明是鉴于上述问题提出的，其目的在于提供一种在抑制在基 板表面上发生复印痕迹的同时防止粒子附着到基板背面的涂敷膜形成 装置及涂敷膜形成方法。此外，本发明的目的在于提供一种运送基板 的机构的构造简单，并能够以高的生产率形成涂敷膜的涂敷膜形成装 置及涂敷膜形成方法。\n换言之，根据本发明，能够提供一种一面沿一个方向运送基板一 面将规定的涂敷液供给至上述基板来形成涂敷膜的涂敷膜形成装置， 该装置具备：设置有用于在表面的规定位置喷射规定气体的多个气体 喷射口的台；在上述台上沿一个方向运送基板的基板运送机构；将规 定的涂敷液供给到在上述台上移动的基板的表面的涂敷液供给喷嘴， 其中，上述基板通过从上述气体喷射口喷射出的气体，以水平姿势且 从上述台的表面浮起的状态，被通过上述基板运送机构运送。\n此外，根据本发明，能够提供一种一面沿一个方向运送基板一面 将涂敷液供给至上述基板来形成涂敷膜的涂敷膜形成方法，该方法具 有：保持基板的周边的一部分，并使上述基板以大致水平姿势浮在从 表面喷出规定气体的台上面的工序、和一面使上述基板维持在向上浮 起的状态而沿一个方向运送上述台，一面向上述基板供给规定的涂敷 液而形成涂敷膜的工序。\n根据本发明，由于以从台向上浮起的状态运送基板，所以能够不 引起台表面的复印，并抑制向基板背面的粒子附着，而且可以用较小 的力运送基板。此外，由于成为通过从下侧喷射的气体支持基板整体 的形式，所以能容易地将基板的姿势保持水平，由此，能够抑制在涂 敷膜上产生厚度不均匀。另外，由于可以逐渐运送基板来进行涂敷处 理，所以能够得到很高的生产率。\n附图说明\n图1是具备本发明的涂敷膜形成装置的一个实施方式的抗蚀剂涂 敷装置的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的概略平面图。\n图2是表示图1所示的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的第一热处理 单元部分的侧视图。\n图3是表示图1所示的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的第二热处理 单元部分的侧视图。\n图4是表示图1所示的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的第三热处理 单元部分的侧视图。\n图5是抗蚀剂处理单元的概略平面图。\n图6是表示基板运送机构的概略构成的截面图。\n图7是模式地表示在导入台部、涂敷台部、运出台部各自的LCD 基板的运送形态的说明图。\n图8是抗蚀剂供给喷嘴的概略立体图。\n图9是表示设置在抗蚀剂涂敷装置中的其他基板运送机构的概略 结构的平面图及截面图。\n图10是模式地表示图9所示的基板运送机构的LCD基板的运送 形态的说明图。\n图11是表示设置在抗蚀剂涂敷装置中的另外一种基板运送机构的 概略构造的截面图。\n图12是模式地表示图11所示的基板运送机构的LCD基板的运送 形态的说明图。\n标号说明\n1.盒台\n2.处理台\n3.连接台\n12.台\n12a.导入台部\n12b.涂敷台部\n12c.运出台部\n13.基板运送机构\n14.抗蚀剂供给喷嘴\n15a～15d保持部件\n16a.气体喷射口\n16b.吸气口\n23.抗蚀剂处理单元\n23a.抗蚀剂涂敷装置\n23b.减压干燥装置\n100.抗蚀剂涂敷·显影处理系统\nG.LCD基板\n具体实施方式\n下面，参照附图详细说明本发明的实施方式。这里，本发明适用 于在LCD用的玻璃基板(以下称为“LCD基板”)的表面上形成抗蚀 剂膜的装置和方法的情况进行说明。\n图1表示在LCD基板上形成抗蚀剂膜和进行曝光处理后的抗蚀剂 膜显影处理的抗蚀剂涂敷·显影处理系统的概略平面图。该抗蚀剂涂 敷·显影处理系统100备有载置收容有多块LCD基板G的盒C的盒 台(运入运出部)1、备有用于实施包含在LCD基板G上进行抗蚀剂 涂敷和显影的一连串处理的多个处理单元的处理台(处理部)2、和用 于在与曝光装置4之间进行LCD基板G的交接的连接台(连接部)3， 并使盒台1和连接台3分别配置在处理台2的两端。另外，在图1中， 将抗蚀剂涂敷·显影处理系统100的长度方向作为X方向，在平面上 与X方向垂直的方向作为Y方向。\n盒台1备有能够在Y方向并列地载置盒C的载置台9、和用于在 与处理台2之间进行LCD基板G的运入运出的运送装置11，并在该 载置台9与外部之间进行盒C的运送。运送装置11具有运送臂11a， 并可以在沿着作为盒C的排列方向的Y方向所设置的运送路径10上 移动，而且通过运送臂11a，在盒C和处理台2之间进行LCD基板G 的运入运出。\n处理台2具有基本上沿X方向伸展的用于运送LCD基板G的2 列平行运送线路A、B，并沿运送线路A，从盒台1一侧向连接台3排 列擦洗清洗处理单元(SCR)21、第一热处理单元部分26、抗蚀剂处 理单元23和第二热处理单元部分27。\n此外，沿运送线路B，从连接台3向盒台1一侧排列第二热处理 单元部分27、显影处理单元(DEV)24、i线UV照射单元(i-UV)25 和第三热处理单元部分28。在擦洗清洗处理单元(SCR)21上面的一 部分上设置准分子激光器(エキシマ)UV照射单元(e-UV)22。另 外，为了在擦洗清洗前除去LCD基板G的有机物而设置准分子激光器 UV照射单元(e-UV)22，为了进行显影的脱色处理而设置i线UV照 射单元(i-UV)25。\n在擦洗清洗处理单元(SCR)21中，在其内一面以大致水平姿势 运送LCD基板G，一面进行清洗处理和干燥处理。在显影处理单元 (DEV)24中，一面以大致水平姿势运送LCD基板G，一面逐次地进 行显影液涂敷、冲洗和干燥处理。在这些擦洗清洗处理单元(SCR) 21和显影处理单元(DEV)24中，通过例如滚轴运送或皮带运送进行 LCD基板G的运送，将LCD基板G的运入口和运出口设置在相对的 短边上。此外，通过与显影处理单元(DEV)24的运送机构同样的机 构，连续地进行LCD基板G的运送到i线UV照射单元(i-UV)25的 运送。\n抗蚀剂处理单元23，如后面详细说明的那样，备有一面以大致水 平姿势运送LCD基板G，一面供给抗蚀剂液，形成涂敷膜的抗蚀剂涂 敷装置(CT)23a；和通过将LCD基板G曝露在减压气氛中，使在LCD 基板G上形成的涂敷膜中所包含的挥发成分蒸发，进而干燥涂敷膜的 减压干燥装置(VD)23b。\n第一热处理单元部分26具有叠层对LCD基板G实施热处理的热 处理单元而构成的两个热处理单元块(TB)31、32，热处理单元块(TB) 31设置在擦洗清洗处理单元(SCR)21一侧，热处理单元块(TB)32 设置在抗蚀剂处理单元23一侧。在这两个热处理单元块(TB)31、32 之间设置有第一运送装置33。\n如图2的第一热处理单元部分26的侧面图所示，热处理单元块 (TB)31具有如下的从下向上顺次叠层的四层结构，进行LCD基板G 的交接的传递单元(PASS)61，两个对LCD基板G实施脱水烘焙处 理的脱水烘焙单元(DHP)62、63，对LCD基板G实施排水化处理的 粘附处理单元(AD)64。此外，热处理单元块(TB)32如下的从下 向上顺次叠层的四层结构，进行LCD基板G的交接的传递单元(PASS) 65，冷却LCD基板G的两个冷却单元(COL)66、67，对LCD基板 G实施排水化处理的粘附处理单元(AD)68。\n第一运送装置33接受经过传递单元(PASS)61且来自擦洗清洗 处理单元(SCR)21的LCD基板G，并进行LCD基板G在上述热处 理单元之间的运入运出，以及经过传递单元(PASS)65将LCD基板 G交接给抗蚀剂处理单元23。\n第一运送装置33具有上下延伸的导轨91、沿导轨91升降的升降 部件92、可以旋转地设置在升降部件92上的基础部件93、以及可以 前进后退地设置在基础部件93上且保持LCD基板G的基板保持臂94。 通过马达95使升降部件92升降，通过马达96使基础部件93旋转， 通过马达97使基板保持臂94前后移动。这样一来，第一运送装置33 可以上下运动、前后运动以及旋转运动，还可以接近热处理单元块(TB) 31、32中的任意一个单元。\n第二热处理单元部分27具有叠层对LCD基板G实施热处理的热 处理单元而构成的两个热处理单元块(TB)34、35，热处理单元块(TB) 34被设置在蚀剂处理单元23一侧，热处理单元块(TB)35被设置在 显影处理单元(DEV)24一侧。此外，在这两个热处理单元块(TB) 34、35之间设置有第二运送装置36。\n如图3的第二热处理单元部分27的侧面图所示，热处理单元块 (TB)34具有如下的从下向上顺次叠层的四层结构，进行LCD基板G 的交接的传递单元(PASS)69、和对LCD基板G实施预烘焙处理的 三个预烘焙单元(PREBAKE)70、71、72。此外，热处理单元块(TB) 35具有如下的从下向上顺次叠层的四层结构，进行LCD基板G的交 接的传递单元(PASS)73、冷却LCD基板G的冷却单元(COL)74 和对LCD基板G实施预烘焙处理的两个预烘焙单元(PREBAKE)75、 76。\n第二运送装置36接受经过传递单元(PASS)69的来自抗蚀剂处 理单元23的LCD基板G，并进行LCD基板G在上述热处理单元之 间的运入运出，经过传递单元(PASS)73而到显影处理单元(DEV) 24的LCD基板G的交接，以及进行与作为后述的连接台3的基板交 接部的延伸·冷却台(EXT·COL)44相对的LCD基板G的交接和 接受。另外，第二运送装置36具有与第一运送装置33相同的结构， 并可以接近到热处理单元块(TB)34、35中的任意一个单元。\n第三热处理单元部分28具有叠层对LCD基板G实施热处理的热 处理单元而构成的两个热处理单元块(TB)37、38，热处理单元块(TB) 37被设置在显影处理单元(DEV)24一侧，热处理单元块(TB)38 被设置在盒台一侧。此外，在这两个热处理单元块(TB)37、38之间 设置有第三运送装置39。\n如图4的第三热处理单元部分28的侧面图所示，热处理单元块 (TB)37具有如下的从下向上顺次叠层的四层结构，进行LCD基板G 的交接的传递单元(PASS)77和对LCD基板G实施后烘焙处理的三 个后烘焙单元(POBAKE)78、79、80的构成。此外，热处理单元块 (TB)38具有如下的从下向上顺次叠层的四层结构，后烘焙单元 (POBAKE)81，进行LCD基板G的交接和冷却的传递·冷却单元 (PASS·COL)82，和对LCD基板G实施后烘焙处理的两个后烘焙 单元(POBAKE)83、84。\n第三运送装置39进行经过传递单元(PASS)77而来自i线UV照 射单元(i-UV)25的LCD基板G的接受，LCD基板G在上述热处理 单元之间的运入运出，以及经过传递·冷却单元(PASS·COL)82而 至LCD基板G到盒台1的交接。另外，第三运送装置39具有与第一 运送装置33相同的结构，还也可以接近热处理单元块(TB)37、38 中的任意一个单元。\n在处理台2中，如上所述地构成两列运送线路A、B，并基本上以 处理的顺序来配置各处理单元和运送装置，在这些运送线路A、B上 设置有空间40。而且，还设置有可以在该空间40往返运动的往返部件 (载置基板部件)41。可以保持LCD基板G地构成该往返部件41， 并经过往返部件41，在运送线路A、B之间进行LCD基板G的交接。 通过上述第一到第三运送装置33、36、39，进行LCD基板G相对往 返部件41的交接。\n连接台3具有在处理台2和曝光装置4之间运入运出LCD基板G 的运送装置42、配置有缓冲盒的缓冲台(BUF)43、和作为备有冷却 功能的基板交接部的延伸·冷却台(EXT·COL)44，与运送装置42 邻接地设置有上下叠层录字单元(TITLER)和周边曝光装置(EE)的 外部装置部件45。运送装置42备有运送臂42a，并通过该运送臂42a， 在处理台2和曝光装置4之间进行LCD基板G的运入运出。\n在这样构成的抗蚀剂涂敷·显影处理系统100中，首先，通过运 送装置11，将配置在盒台1的载置台9上的盒C内的LCD基板G直 接运入处理台2的准分子激光器UV照射单元(e-UV)22中，进行擦 洗前处理。其次，通过运送装置11，将LCD基板G运入到擦洗清洗 处理单元(SCR)21，进行擦洗清洗。在擦洗清洗后，通过例如滚轴 运送，将LCD基板G运出到属于第一热处理单元部分26的热处理单 元块(TB)31的传递单元(PASS)61。\n最初，将配置在传递单元(PASS)61的LCD基板G运送到热处 理单元块(TB)31的脱水烘焙单元(DHP)62、63中的任意一个来进 行加热处理，其次，在运送到热处理单元块(TB)32的冷却单元(COL) 66、67中任意一个而进行冷却后，为了提高抗蚀剂的粘合性，将其运 送到热处理单元块(TB)31的粘附处理单元(AD)64以及热处理单 元块(TB)32的粘附处理单元(AD)68中的任意一个，在那里通过 HMDS进行粘附处理(排水化处理)。此后，将LCD基板G运送到冷 却单元(COL)66、67中的任意一个来进行冷却，然后被运送到热处 理单元块(TB)32的传递单元(PASS)65。通过第一运送装置33， 进行整个进行如上一连串处理时的LCD基板G的运送处理。\n通过设置在传递单元(PASS)65内的、例如滚轴运送机构等的基 板运送机构，将配置在传递单元(PASS)65的LCD基板G运入到抗 蚀剂处理单元23内。如后面详细说明的，在抗蚀剂涂敷装置(CT)23a 中，一面以水平姿势运送LCD基板G，一面供给抗蚀剂液而形成涂敷 膜，此后，用减压干燥装置(VD)23b对涂敷膜实施减压干燥处理。 此后，通过设置在减压干燥装置(VD)23b中的基板运送臂，将LCD 基板G从抗蚀剂处理单元23交接至属于第二热处理单元部分27的热 处理单元块(TB)34的传递单元(PASS)69。\n通过第二运送装置36，将配置在传递单元(PASS)69中的LCD 基板G运送到热处理单元块(TB)34的预烘焙单元(PREBAKE)70、 71、72以及热处理单元块(TB)35的预烘焙单元(PREBAKE)75、 76中的任意一个来进行预烘焙处理，此后，将其运送到热处理单元块 (TB)35的冷却单元(COL)74而冷却到规定温度。此外，通过第二 运送装置36，进一步将其运送到热处理单元块(TB)35的传递单元 (PASS)73。\n此后，通过第二运送装置36，将LCD基板G运送到连接台3的 延伸·冷却台(EXT·COL)44，并根据需要，通过连接台3的运送 装置42，将其运送到外部装置部件45的周边曝光装置(EE)，在那里， 进行用于除去抗蚀膜的外周部分(不要部分)的曝光。接下来，通过 运送装置42，将LCD基板G运送到曝光装置4，在那里对LCD基板 G上的抗蚀剂膜以规定图形来实施曝光处理。另外，还存在一旦LCD 基板G被收容在缓冲台(BUF)43上的缓冲盒中，之后就运送到曝光 装置4的情况。\n在曝光结束后，通过连接台3的运送装置42，将LCD基板G运 送到外部装置部件45的上段的录字单元(TITLER)，并将规定信息记 录在LCD基板G上，之后将其载置在延伸·冷却台(EXT·COL)44 上。通过第二运送装置36，将LCD基板G从延伸·冷却台(EXT·COL) 44运送到属于第二热处理单元部分27的热处理单元块(TB)35的传 递单元(PASS)73。\n通过使从传递单元(PASS)73延长到显影处理单元(DEV)24 的例如滚轴运送机构工作，将LCD基板G从传递单元(PASS)73运 入到显影处理单元(DEV)24。在显影处理单元(DEV)24中，例如， 一面以水平姿势运送基板，一面将显影液盛在LCD基板G上，此后， 一旦停止LCD基板G的运送，就使LCD基板倾斜规定的角度，由此， 流动LCD基板G上的显影液使其落下，还在该状态下将冲洗液供给 LCD基板G，从而使冲洗显影液使其流走。此后，将LCD基板G回 复水平姿势，从而再次开始运送，并通过用干燥用氮气或空气吹LCD 基板G，使LCD基板干燥。\n在显影处理结束后，通过连续的运送机构、例如滚轴运送，将LCD 基板G从显影处理单元(DEV)24运送到i线UV照射单元(i-UV) 25，并对LCD基板G实施脱色处理。此后，通过i线UV照射单元(i-UV) 25内的滚轴运送机构，将LCD基板G运送到属于第三热处理单元部 分28的热处理单元块(TB)37的传递单元(PASS)77。\n通过第三运送装置39，将配置在传递单元(PASS)77中的LCD 基板G运送到热处理单元块(TB)37的后烘焙单元(POBAKE)78、 79、80和热处理单元块(TB)38的后烘焙单元(POBAKE)81、83、 84中的任意一个来进行后烘焙处理，此后，在将它运送到该热处理单 元块(TB)38的传递·冷却单元(PASS·COL)82而使其冷却到规 定温度后，通过盒台1的运送装置11，将LCD基板G收容在配置在 盒台1中的规定盒C中。\n接下来，对抗蚀剂处理单元23进行详细说明。图5是抗蚀剂处理 单元23的概略平面图。\n抗蚀剂涂敷装置(CT)23a备有，设置有用于在表面的规定位置 上喷射规定气体的多个气体喷射口16a的台12、在台12上沿X方向 运送LCD基板G的基板运送机构13、和向在台12上移动的LCD基 板G的表面供给抗蚀剂液的抗蚀剂供给喷嘴14。此外，减压干燥装置 (VD)23b备有用于载置LCD基板G的载置台17、和收容载置在载 置台17上的LCD基板G的腔室18。另外，在抗蚀剂处理单元23中， 设置有既从抗蚀剂涂敷装置(CT)23a到减压干燥装置(VD)23b， 又从减压干燥装置(VD)23b到设置在热处理单元块(TB)34中的传 递单元(PASS)69运送LCD基板G的基板运送臂19。\n图6是表示基板运送机构13的概略结构的截面图。基板运送机构 13备有，保持LCD基板G的Y方向端的一部分的保持部件15a、15b； 在台12的Y方向侧以在X方向延伸的方式配置的直线导轨51a、51b； 保持保持部件15a、15b且与直线导轨51a、51b嵌合的连结部件50、 以及使连结部件50在X方向往复移动的X轴驱动机构53。\n保持部件15a、15b分别具有，设置有一个以上的用于将LCD基 板G吸附保持在台座单元49上的吸附法兰盘48的结构，并通过使真 空泵等的减压机构52进行工作，可以使吸附法兰盘48吸附并保持LCD 基板G。吸附法兰盘48，在LCD基板G上不涂敷抗蚀剂液的部分的 背面侧、即LCD基板G的背面周边部分上，保持LCD基板G。作为 X轴驱动机构53，例如，可以列举出皮带驱动机构、滚轴、空气滑动 器、电动滑动器等。\n从LCD基板G的运送方向的上游向下游，将台12分成导入台部 12a、涂敷台部12b和运出台部12c。导入台部12a是用于从热处理单 元块(TB)32的传递单元(PASS)65到涂敷台部12b运送LCD基板 G的区域。在涂敷台部12b上配置有抗蚀剂供给喷嘴14，在这里向LCD 基板G供给涂敷液而形成涂敷膜。运出台部12c是用于将形成有涂敷 膜的LCD基板G运出到减压干燥装置(VD)23b的区域。\n图7(a)～(c)是模式地表示在各个导入台部12a、涂敷台部12b、 运出台部12c中的LCD基板G的运送形态的说明图。\n如图5和图7(a)所示，在导入台部12a上，在规定位置上设置 了从它的表面到上方喷射氮气和空气等气体的气体喷射口16a，使得通 过从气体喷射口16a喷射的气体，将LCD基板G以大致水平姿势保持 在从导入台部12a向上浮起的状态。为了提高LCD基板G的平面度， 优选缩小气体喷射口16a的直径，或增多气体喷射口16a的配置数量。\n如图5和图7(b)所示，在涂敷台部12b上，在气体喷射口16a 基础之上，还在它表面的规定位置上设置有吸气口16b。在涂敷台部 12b中，通过调整来自气体喷射口16a的气体喷射量和来自吸气口16b 的气体吸入量，能够以比导入台部12a和运出台部12c高的精度，调 节LCD基板G的向上浮起的高度。\n如图5和图7(c)所示，在运出台部12c上，在用于使LCD基板 G向上浮起的气体喷射口16a基础之上，为了将运送到运出台部12c 的LCD基板G交接至基板运送臂19，还设置有将LCD基板G保持在 上面的上举支杆47。\n这样，在抗蚀剂涂敷装置(CT)23a中，能够以从台12向上浮起 规定距离的状态保持LCD基板G。因此，为了在保持部件15a、15b 保持LCD基板G而移动连结部件50，不需要大的力量。换言之，在X 驱动机构53中不需要大的转矩，由此，可以谋求基板运送机构13小 型化。\n图8表示抗蚀剂供给喷嘴14的概略立体图。抗蚀剂供给喷嘴14 所具有的结构在于，在一个方向上延伸的长条状箱体14a上设置有大 致带状地喷出抗蚀剂液的带状抗蚀剂喷出口14b。在使箱体14a的长度 方向与Y方向一致的状态下，可以通过喷嘴升降机构30，自由升降地 将该抗蚀剂供给喷嘴14安装在配置在涂敷台部12b的大致中央部分的 喷嘴保持部件20上。\n在抗蚀剂供给喷嘴14上安装有测定抗蚀剂喷出口14b和LCD基 板G之间的间隔的传感器29，喷嘴升降机构30根据该传感器29的测 定值，控制抗蚀剂供给喷嘴14的位置。抗蚀剂供给喷嘴14的长度小 于LCD基板G的宽度(Y方向长度)，使得在LCD基板G的周边的 一定区域内不会形成涂敷膜。\n在设置于减压干燥装置(VD)23b上的载置台17的表面上，将支 持LCD基板G的贴近支杆(未图示)设置在规定位置。腔室18具有 有由固定的下部容器和可以自由升降的上部盖体构成的上下二分割的 结构。基板运送臂19可以沿X方向、Y方向、Z方向(竖直方向)移 动。\n在次，我们说明在如上构成的抗蚀剂处理单元23中的LCD基板G 的处理工序。另外，通过使用设置在传递单元(PASS)65上的滚轴46 的转动的滚轴运送机构，进行LCD基板G从热处理单元块(TB)32 的传递单元(PASS)65到抗蚀剂处理单元23的运送。\n最初，在热处理单元块(TB)32一侧待机保持部件15a、15b，形 成能够在台12上在各单元中使LCD基板G向上浮起规定高度的状态。 其次，通过滚轴运送机构，使LCD基板G从热处理单元块(TB)32 的传递单元(PASS)65进入导入台部12a，在LCD基板G的一部分 还由滚轴46支持的状态下，将LCD基板G的Y方向一端保持在保持 部件15a、15b上。接着，使由滚轴46产生的运送速度和保持部件15a、 15b的移动速度一致，从而将LCD基板G运入到台12的导入台部12a。 在导入台部12a上，例如，以从它的表面向上浮起150μm的状态运送 LCD基板G。\n随着由基板驱动机构13的驱动引起向保持部件15a、15b的X方 向的移动，LCD基板G被运入到涂敷台部12b。在涂敷台部12b上， 通过在进行来自气体喷射口16a的气体喷射的同时进行来自吸气口16b 的吸气，例如，能够使LCD基板G从该的表面向上浮起的高度约为 40μm。\n当LCD基板G通过抗蚀剂供给喷嘴14的下面时，从抗蚀剂供给 喷嘴14向LCD基板G喷出抗蚀剂液，形成涂敷膜。例如，在涂敷台 部12b上的基板运送速度能够为150mm/秒。这样，由于通过降低LCD 基板的向上浮起的高度能够进一步提高LCD基板G的平面度，所以能 够形成厚度均匀的涂敷膜。\n另外，虽然还可以根据传感器29的测定信号，对每块LCD基板G 调整抗蚀剂供给喷嘴14的高度，但是通常由于多块LCD基板G的运 送状态是相同的，所以如果调节最初处理的LCD基板G或伪基板G 上的抗蚀剂供给喷嘴14的高度，则此后几乎不需要调整抗蚀剂供给喷 嘴14的高度。此外，既可以利用传感器29的测定信号决定来自抗蚀 剂供给喷嘴14的抗蚀剂液的喷出开始/喷出结束的时间选择，也可以用 另一种方法设置检测LCD基板G的位置的传感器，并根据来自该传感 器的信号决定该时间选择。\n随着保持部件15a、15b的移动，因通过涂敷台部12b而形成了涂 敷膜的LCD基板G被运送到运出台部12c。在运出台部12c中，例如， 使LCD基板G处于从其表面向上浮起150μm的状态。如果LCD基板 G整体到达运出台部12c上，则解除由保持部件15a、15b产生的吸附 保持，同时使上举支杆47上升，从而将LCD基板G保持在规定的高 度。\n接着，基板运送臂19接近由上举支杆47保持在上面的LCD基板 G。如果基板运送臂19在LCD基板G的Y方向一端把持住LCD基板 G，则使上举支杆47下降。此外，基板运送臂19将把持住的LCD基 板G载置在减压干燥装置(VD)23b的载置台17上。此后，通过密 闭腔室18而将其内部减压，对涂敷膜进行减压干燥。\n如果在LCD基板G的减压干燥装置(VD)23b中的处理结束， 则打开腔室18，使基板运送臂19接近载置在载置台17上的LCD基板 G，从而把持住LCD基板G，并将LCD基板G运送到热处理单元块 (TB)34的传递单元(PASS)69。另一方面，将LCD基板G交接给 上举支杆47后的保持部件15a、15b，为了运送下一次处理的LCD基 板G，返回热处理单元块(TB)32一侧，此后，重复上述处理工序。\n在这种涂敷膜形成方法中，由于以从台12向上浮起的状态运送 LCD基板G，故不会发生台12表面的转写，并能够抑制粒子附着到 LCD基板G的背面。此外，由于能够缩短将抗蚀剂液涂敷到LCD基 板G的间歇，所以能够得到较高的生产率。\n由此，在这种抗蚀剂涂敷装置(CT)23a中的LCD基板G的运送 方法中，在保持部件15a、15b将LCD基板G交接给运出台部12c的 上举支杆47，返回到热处理单元块(TB)32一侧之前，不会将下一次 要处理的LCD基板G运入到导入台部12a。因此，下面我们说明装备 在抗蚀剂涂敷装置(CT)23a中的进一步优选的基板运送机构。\n图9表示设置在抗蚀剂涂敷装置(CT)23a上的其他基板运送机 构的概略结构的平面图(图9(a))和截面图(图9(b))。该基板运 送机构55具有保持LCD基板G的Y方向一端的保持部件85a、85b； 分别与直线导轨51a、51b(与前面说明的基板运送机构13的相同)嵌 合，同时可以分别将保持部件85a、85b滑动自如地保持在Y方向的移 动体86a、86b；以及可以分别将移动体85a、85b向另外一个X方向移 动的X轴驱动机构53a、53b。\n保持部件85a、85b分别具有沿X方向的长条形状，并备有多个吸 附法兰盘48，使得可以在X方向的广大范围内保持LCD基板G的Y 方向一端。由此，即使分别单独地将LCD基板G保持在保持部件85a、 85b上，并沿X方向移动保持部件85a、85b，也能够防止发生LCD基 板G在Y方向上的偏差，从而可以稳定运送LCD基板G的姿势。此 外，保持部件85a、85b通过未图示的Y方向滑动机构分别在Y方向 上滑动自如。\n图10是模式地表示由该基板运送机构55产生的LCD基板G的运 送形态的说明图。最初，将保持部件85b以不与运入导入台部12a的 LCD基板G相接的方式配置在远离Y方向的位置上，另一方面，将保 持部件85a配置在导入台部12a上能够保持LCD基板G的Y方向一端 的位置上，从而将被运入导入台部12a的LCD基板G保持在保持部件 85a上。(图10(a))。\n其次，沿X方向移动保持部件85a，进而将LCD基板G运入涂敷 台部12b，并在那里，进行涂敷膜的形成。此外，如果将LCD基板G 整体运入涂敷台部12b，则因为导入台部12a处于能够运入下一次处理 的LCD基板G的状态，所以将保持部件85b移动到导入台部12a上能 够保持LCD基板G的Y方向一端的位置上(图10(b))。\n接着，保持部件85b保持新运入导入台部12a的LCD基板G′， 并开始到涂敷台部12b的运送。另一方面，保持部件85a将形成了涂 敷膜的LCD基板G运送到台单元12c，并在那里交接给上举支杆47 (图10(c))。此后，为了不与保持部件85b运送的LCD基板G′发 生冲突，以远离台12的状态，使保持部件85a回到导入台部12a一侧 (图10(d))。接着，如果保持在保持部件85b中的LCD基板G′被 整体运入到涂敷台部12b，则准备将新的LCD基板G运入到导入台部 12a，从而将保持部件85a移动到能够保持LCD基板G的Y方向一端 的位置上。以后，保持部件85a、85b重复与上述保持部件85a相同的 工作。\n接着，我们说明另外一种基板运送机构。图11是表示设置在抗蚀 剂涂敷装置(CT)23a中的另外一种基板运送机构的概略构造的截面 图。该基板运送机构56具有在台12的Y方向侧面两根一组地配置的 直线导轨51a～51d；分别与直线导轨51a～51d嵌合的移动体88a～88d； 分别设置在移动体88a、88b上的升降机构89a、89b；分别保持在升降 机构89a、89b上的保持部件15a、15b；分别设置在移动体88c、88d 上的保持部件15c、15d；分别使保持部件15c、15d沿Y方向滑动的Y 轴驱动机构89c、89d；以及分别使移动体88a～88d沿X方向滑动的X 轴驱动机构53a～53d。\n图11(a)表示以保持部件15a、15b为一组保持着LCD基板G状 态，图11(b)表示以保持部件15c、15d为一组保持着LCD基板G 状态。当保持部件15a、15b运送LCD基板G时，为了使保持部件15a、 15b各自的运动是在竖直面S内进行(参照图11(a))，同样地控制X 轴驱动机构53a、53b和升降机构89a、89b的驱动。在保持部件15c、 15d运送LCD基板G的情况下，也同样地控制X轴驱动机构53c、53d 和Y轴驱动机构89c、89d。\n图12是表示保持部件15a～15d的动作的说明图。首先，在用保持 部件15a、15b把持从热处理单元块(TB)32的传递单元(PASS)65 运送到导入台部12a的LCD基板G的情况下，使保持部件15c、15d 处于在Y方向远离台12的状态(图12(a))。\n如果保持部件15a、15b保持着LCD基板G，则使保持部件15a、 15b向涂敷台部12b一侧移动，从而在LCD基板G上涂敷抗蚀剂液。 另一方面，接着为了使保持部件15c、15d能够接受从传递单元(PASS) 65运送过来的LCD基板G，将持部件15c、15d接近台12(图12(b))。\n保持形成了涂敷膜的LCD基板G的保持部件15a、15b，在移动 到运出台部12c后，在那里将保持的LCD基板G交接给上举支杆47 (在图12中未图示)。另一方面，保持部件15c、15d把持从热处理单 元块(TB)32的传递单元(PASS)65运送到导入台部12a的LCD基 板G′，从而开始向涂敷台部12b侧的移动(图12(c))。\n接着，在将保持部件15a、15b降低到低于保持部件15c、15d的 位置后，使其以该状态返回导入台部12a一侧(请参照图11(b))，此 后，调整保持部件15a、15b的高度位置，使得可以保持新的LCD基 板。另一方面，保持部件15c、15d将LCD基板G′运送到涂敷台部 12b一侧，并在LCD基板G′上形成涂敷膜(图12(d))。\n到达运出台部12c的保持部件15c、15d，在运出台部12c中将保 持的LCD基板G′交接给上举支杆47(在图12中为图示)。此外，保 持部件15a、15b把持住从热处理单元块(TB)32的传递单元(PASS) 65运送到导入台部12a的LCD基板G″，从而开始向涂敷台部12b侧 的移动(图12(e))。\n接着，将保持部件15c、15d远离台12，进而在该状态下返回导入 台部12a一侧(图12(f)。在这之后，保持部件15a～15d通过分别重 复上述的顺序，逐次运送LCD基板G。在用这种基板运送机构55、56 的情况下，因为能够连续运送LCD基板来进行涂敷膜的形成处理，所 以能够得到很高的生产率。\n以上，虽然对本发明的实施方式有所说明，但是本发明不限定于 这种方式。例如，从热处理单元块(TB)32的传递单元(PASS)65 到抗蚀剂涂敷装置(CT)23a的LCD基板G的运送，还可以是在传递 单元(PASS)65上设置基板运送臂，并在导入台部12a上设置上举支 杆，从而通过将该基板运送臂保持的LCD基板交接给上举支杆，且降 低上举支杆，在导入台部12a的表面附近，将LCD基板G把持在保持 部件15a、15b等上。\n此外，虽然表示有保持部件15a、15b以保持在其运送方向前头部 分而拉LCD基板G的方式运送将LCD基板G的形式，但是保持部件 15a、15b可以以保持在其运送方向后方部分而推LCD基板G的方式 运送LCD基板G。另外，在基板运送机构56中，虽然保持部件15c、 15d可以在Y方向滑动自如，但保持部件15c、15d也可以是在运送LCD 基板G的高度和高于运送LCD基板G的高度的位置之间升降自如的 结构。由此，使保持部件15a、15b和保持部件15c、15d不发生冲突， 并可以在他们上交互运送LCD基板G。在上述说明中，虽然取出作为 涂敷膜的抗蚀剂膜，但是涂敷膜不限定于此，还可以是反射防止膜或 不具有感光性的绝缘膜等。\n本发明适用于在LCD基板等的大型基板上形成抗蚀剂膜的抗蚀剂 膜形成装置以及抗蚀剂膜形成方法。\n[专利文献1]日本特开平10-156255号专利公报