1.一种用于制备CdTe太阳能电池背电极的背接触层结构:所述背接触层结构依次包括:
Cu金属层,所述Cu金属层沉积在经过刻蚀预处理的CdTe薄膜表面;
高功函数过渡金属氧化物层;和
金属背电极层。
2.根据权利要求1所述的背接触层结构,其中所述刻蚀预处理包括化学刻蚀和干法刻蚀。
3.根据权利要求1所述的背接触层结构,其中所述Cu金属层的厚度为0.3纳米至10纳米;和/或所述高功函数过渡金属氧化物的厚度为1纳米至100纳米。
4.根据权利要求1所述的背接触层结构,其中所述过渡金属氧化物层为非晶态薄膜或多晶态薄膜;和/或所述过渡金属氧化物通过物理溅射、热蒸发、化学气相沉积法、物理气相沉积、溶胶-凝胶法或喷涂热解法制备;和/或所述过渡金属氧化物选自MoOx、WOx、VOx、NiOx和TaOx,其中x表示该氧化物是化学计量比或非化学计量比的氧化物。
5.根据权利要求1所述的背接触层结构,其中所述高功函数过渡金属氧化物的功函数大小与其接触的P型半导体CdTe的功函数的关系为:所述高功函数过渡金属氧化物的功函数等于或大于P型半导体CdTe的功函数减去0.3eV。
6.根据权利要求1所述的背接触层结构,其中所述金属背电极为功函数稳定的纯金属材料或金属合金材料。
7.根据权利要求1所述的背接触层结构,所述背接触层结构在所述金属背电极层形成之后经历真空退火处理。
8.一种制造背接触层结构的方法,所述方法包括在经过刻蚀预处理的CdTe薄膜表面上依次形成:
Cu金属层;
高功函数过渡金属氧化物层;和
金属背电极层。
9.一种CdTe薄膜太阳能电池,所述CdTe薄膜太阳能电池包括根据权利要求1-8中的任一项所述的背接触层结构。
10.根据权利要求9所述的CdTe薄膜太阳能电池,所述CdTe薄膜太阳能电池包括:
透明衬底;
设置在所述透明衬底上的透明导电前电极;
设置在所述透明导电前电极上的CdS窗口层;
设置在所述CdS窗口层上的作为吸收层的CdTe薄膜;
设置在所述CdTe薄膜上的权利要求1所述的背接触层结构。
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
1
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2013-10-09
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2013-06-29
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2
| | 暂无 |
2003-10-01
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3
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2014-04-30
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2013-11-20
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4
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2012-11-14
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2012-07-11
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5
| | 暂无 |
2013-01-09
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被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 1 | | 2016-12-28 | 2016-12-28 | | |
2 | | 2015-12-30 | 2015-12-30 | | |