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覆金属层叠板和电路基板

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980049115.0
  • IPC分类号:B32B15/088;B32B15/08;C08G73/10;H05K1/03;H05K3/38
  • 申请日期:
    2019-07-17
  • 申请人:
    日铁化学材料株式会社
著录项信息
专利名称覆金属层叠板和电路基板
申请号CN201980049115.0申请日期2019-07-17
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-03-09公开/公告号CN112469560A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B32B15/088IPC分类号B;3;2;B;1;5;/;0;8;8;;;B;3;2;B;1;5;/;0;8;;;C;0;8;G;7;3;/;1;0;;;H;0;5;K;1;/;0;3;;;H;0;5;K;3;/;3;8查看分类表>
申请人日铁化学材料株式会社申请人地址
日本东京中央区日本桥一丁目13番1号(邮递区号:103-0027) 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日铁化学材料株式会社当前权利人日铁化学材料株式会社
发明人须藤芳树;铃木智之;安达康弘
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
一种覆金属层叠板,包括含有多个聚酰亚胺层的树脂层叠体;以及层叠于树脂层叠体的至少单面的金属层,树脂层叠体满足i)整体的厚度为40μm~200μm的范围内;ii)包含与金属层接触的第一聚酰亚胺层、以及直接或间接地层叠于第一聚酰亚胺层上的第二聚酰亚胺层;iii)第二聚酰亚胺层的厚度相对于树脂层叠体的整体的厚度的比率为70%~97%的范围内;iv)基于E1=√ε1×Tanδ1计算出的作为表示介电特性的指标的E1值未满0.009,[此处,ε1表示通过分离介电质共振器(SPDR)进行测定的10GHz下的介电常数,Tanδ1表示通过分离介电质共振器(SPDR)进行测定的10GHz下的介电正切]。

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