投射光学系统及投影装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201280043000.9
IPC分类号：G02B17/08;G02B13/16;G02B15/20;G03B21/14;G02B13/18;G02B13/22;G02B15/163
申请日期：
2012-07-05
申请人：
日东光学株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	投射光学系统及投影装置
申请号	CN201280043000.9	申请日期	2012-07-05
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2014-05-07	公开/公告号	CN103782222A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B17/08 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B17/00 有或无折射元件的具有反射面的系统（显微镜入G02B 21/00；望远镜、潜望镜入G02B 23/00；其他位置不包括的光束整形入G02B 27/09光束分解或合成入G02B 27/10；光学投影入G02B 27/18）〔6〕 G02B17/08 折反射系统	IPC分类号	G;0;2;B;1;7;/;0;8;;;G;0;2;B;1;3;/;1;6;;;G;0;2;B;1;5;/;2;0;;;G;0;3;B;2;1;/;1;4;;;G;0;2;B;1;3;/;1;8;;;G;0;2;B;1;3;/;2;2;;;G;0;2;B;1;5;/;1;6;3查看分类表>
申请人	日东光学株式会社	申请人地址	日本长野县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日东	当前权利人	株式会社日东
发明人	松尾恭彦
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇;张会华

摘要

本发明提供一种从缩小侧的第1像面向放大侧的第2像面进行投射的投射光学系统（1），其具有：第1折射光学系统（11），其包含透镜（L1）～（L8）这8个透镜，利用从缩小侧入射的光在放大侧形成第1中间图像（31）；第2折射光学系统（12），其包含透镜（L9）～（L14）这6个透镜，使缩小侧的第1中间图像（31）在放大侧成像为第2中间图像（32）；以及第1反射光学系统（20），其包含位于比第2中间图像（32）靠放大侧的位置的正折射力的第1反射面（21a）。

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