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双二酰亚胺化合物,使用它们的酸产生剂和抗蚀剂组合物以及用该组合物的图案形成方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02823446.4
  • IPC分类号:C07D209/48;C07D409/14;C07D487/04;G03F7/039
  • 申请日期:
    2002-11-28
  • 申请人:
    和光纯药工业株式会社;松下电器产业株式会社
著录项信息
专利名称双二酰亚胺化合物,使用它们的酸产生剂和抗蚀剂组合物以及用该组合物的图案形成方法
申请号CN02823446.4申请日期2002-11-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-03-09公开/公告号CN1592738
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C07D209/48IPC分类号C;0;7;D;2;0;9;/;4;8;;;C;0;7;D;4;0;9;/;1;4;;;C;0;7;D;4;8;7;/;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9查看分类表>
申请人和光纯药工业株式会社;松下电器产业株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人和光纯药工业株式会社,松下电器产业株式会社当前权利人和光纯药工业株式会社,松下电器产业株式会社
发明人前泽典明;浦野文良;远藤政孝;笹子胜
代理机构北京市中咨律师事务所代理人段承恩;田欣
摘要
本发明涉及作为在半导体元件等的制造中使用的化学放大型抗蚀剂组合物的酸产生剂或用于耐热性高分子合成原料有用的新的双二酰亚胺化合物,使用它们的酸产生剂和抗蚀剂组合物以及用该组合物的图案形成方法,进一步涉及作为双二酰亚胺化合物的合成中间体,例如耐热性高分子化合物,感光材料等的功能性化合物的中间体等有用的双(N-羟基)苯邻二甲酰亚胺化合物,即提供通式[1]所示的双二酰亚胺化合物:[式中,R,A1分别如权利要求1定义]使用它们的酸产生剂以及抗蚀剂组合物和用该组合物的图案形成方法。

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