一种含有离子液体添加剂的无氰电镀黄铜镀液及其使用方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510097474.7
IPC分类号：C25D3/38;C25D5/00
申请日期：
2015-03-05
申请人：
中国科学院过程工程研究所

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专利名称	一种含有离子液体添加剂的无氰电镀黄铜镀液及其使用方法
申请号	CN201510097474.7	申请日期	2015-03-05
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-06-10	公开/公告号	CN104694982A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25D3/38 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25D 覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸（印刷电路的金属沉积法制造入H05K 3/18）；工件的电解法接合；所用的装置（阳极或阴极保护入 C23F13/00；单晶生长入C30B）〔2，6〕 C25D3/00 电镀；其所用的镀液〔2〕 C25D3/02 溶液（C25D 5/24至C25D 5/32优先）〔2〕 C25D3/38 铜的〔2〕	IPC分类号	C;2;5;D;3;/;3;8;;;C;2;5;D;5;/;0;0查看分类表>
申请人	中国科学院过程工程研究所	申请人地址	北京市海淀区中关村北二条1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院过程工程研究所	当前权利人	中国科学院过程工程研究所
发明人	张锁江;杜文朝;王倩;吕兴梅
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	巩克栋

摘要

本发明涉及清洁电镀领域，针对传统的氰化法和热扩散法制备钢帘线黄铜镀层存在的毒性大、环保成本高、工艺复杂和能耗高等问题，以及无氰电镀黄铜镀层的连续性差、铜锌比不稳定、有漏镀现象等不足，本发明提供了一种含有新型离子液体添加剂的无氰黄铜镀液，镀液由三水焦磷酸钾(A)200～270g/L，五水硫酸铜(B)1～2g/L，七水硫酸锌(C)35～45g/L，双氧水(D)0.1～0.6ml/L，离子液体(E)1.0～20mg/L组成。操作条件为：pH为8.50～9.20，电流密度为1.5～2.0A/dm2，温度为室温，施镀时间为5～10min，镀液循环流量为2200ml/min。制备出了与基体结合力强，均匀、连续、致密的黄铜镀层，其铜锌比、厚度等镀层性能符合《GB/T24245‑2009橡胶履带用钢帘线》及相关国家标准的技术要求。

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