加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

电介质材料中的金属互连

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200780007024.8
  • IPC分类号:H01L21/768
  • 申请日期:
    2007-02-26
  • 申请人:
    ST微电子(克偌林斯2)股份有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称电介质材料中的金属互连
申请号CN200780007024.8申请日期2007-02-26
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2009-05-06公开/公告号CN101427361
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/768IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人ST微电子(克偌林斯2)股份有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人NXP股份有限公司,ST微电子(克偌林斯2)股份有限公司当前权利人NXP股份有限公司,ST微电子(克偌林斯2)股份有限公司
发明人华金·托雷斯;樊尚·阿纳尔;洛朗乔治·戈塞;维姆·贝斯兰格
代理机构北京市金杜律师事务所代理人郑立柱
摘要
用于制造半导体装置的方法,所述半导体器件在第一电介质材料制成的电介质层中包括一互连,所述互连包含导电部分。在所述电介质层中形成沟槽。该方法还包括:去除构成所述沟槽侧壁的该电介质层的暴露部分,并在该沟槽的侧壁上淀积电介质内衬,该内衬由第二电介质材料制成。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供