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一种薄型非接触模块的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810203233.6
  • IPC分类号:G06K19/077;H01L21/50;H01L21/78
  • 申请日期:
    2009-03-22
  • 申请人:
    上海伊诺尔信息技术有限公司
著录项信息
专利名称一种薄型非接触模块的制造方法
申请号CN200810203233.6申请日期2009-03-22
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2009-07-15公开/公告号CN101482937
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06K19/077IPC分类号G;0;6;K;1;9;/;0;7;7;;;H;0;1;L;2;1;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;7;8查看分类表>
申请人上海伊诺尔信息技术有限公司申请人地址
上海市闵行区召楼路3576号2幢3层301室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海伊诺尔信息电子有限公司当前权利人上海伊诺尔信息电子有限公司
发明人陆美华;叶佩华
代理机构上海申汇专利代理有限公司代理人翁若莹
摘要
本发明涉及一种薄型非接触模块的制造方法,其特征在于,其方法为采用将硅圆片均匀减薄到150μm厚度以下的晶圆减薄IC卡,采用厚度60um超薄型带材和精密冲压模具制作高性能超薄载带,铜镍合金载带用环氧胶粘接IC卡,IC卡通过金线连接铜镍合金载带,应用超薄硅圆片的划片技术来进行晶圆减薄集成电路芯片芯片的切割,用模塑料注塑封装而成。本发明的优点是微型化、薄型化、高频化、片式化和低功耗。

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