加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

磁铁及其加工方法和磁控溅射源

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010523028.5
  • IPC分类号:H01F41/00
  • 申请日期:
    2010-10-22
  • 申请人:
    北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
著录项信息
专利名称磁铁及其加工方法和磁控溅射源
申请号CN201010523028.5申请日期2010-10-22
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2012-05-16公开/公告号CN102456478A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01F41/00IPC分类号H;0;1;F;4;1;/;0;0查看分类表>
申请人北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司当前权利人北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
发明人吴桂龙;刘旭;赵梦欣;杨柏;丁培军
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人张天舒;陈源
摘要
本发明涉及一种磁铁及其加工方法和磁控溅射源,其中,加工方法包括:将磁粉加工成型后进行烧结和电镀处理,以得到初始磁铁;在所述初始磁铁外表面套置非磁性的密闭外套;对套置非磁性的密闭外套的所述初始磁铁进行充磁以得到磁铁。在本实施例中,通过将磁铁的外表面密闭套置一层非磁性的密闭外套,以保护磁铁免受外界的气体或液体的腐蚀或污染,同时还可提高磁铁的机械强度和抗冲击能力,从而延长磁铁的使用寿命;并且,将充磁工序设定在完成烧结、电镀和焊接等高温工序之后进行,使充磁得到的磁铁不需要再经历高温工序,从而保持磁铁的磁性的稳定。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供