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一种GaNLED外延结构

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202020024053.8
  • IPC分类号:H01L33/10;H01L33/02;H01L33/00
  • 申请日期:
    2020-01-06
  • 申请人:
    佛山市国星半导体技术有限公司
著录项信息
专利名称一种GaNLED外延结构
申请号CN202020024053.8申请日期2020-01-06
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/10IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;1;0;;;H;0;1;L;3;3;/;0;2;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人佛山市国星半导体技术有限公司申请人地址
广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙广东新光源产业基地内光明大道18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佛山市国星半导体技术有限公司当前权利人佛山市国星半导体技术有限公司
发明人仇美懿;庄家铭
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人胡枫;李素兰
摘要
本实用新型公开了一种GaN LED外延结构,所述外延结构包括衬底、设于衬底上的N型GaN层、设于N型GaN层上的有源层、设于有源层上的P型GaN层,还包括反射层,所述反射层设置在N型GaN层和有源层之间,或者/和设置在P型GaN层和有源层之间;所述反射层包括若干个周期的GaN层和InAlN层,所述InAlN层设置在所述GaN层上,所述InAlN层的折射率大于GaN层的折射率,所述GaN层的光学厚度大于InAlN层的光学厚度。本实用新型将反射层设置在外延结构内,有源层发出的光很快就被反射层进行反射,不需要经过很多层外延结构和衬底才可以进行反射,有效减少光的损失。

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