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光栅的线密度测量方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201611115071.1
  • IPC分类号:G01M11/02;G01B11/00
  • 申请日期:
    2016-12-07
  • 申请人:
    上海理工大学
著录项信息
专利名称光栅的线密度测量方法
申请号CN201611115071.1申请日期2016-12-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-02-22公开/公告号CN106441823A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01M11/02IPC分类号G;0;1;M;1;1;/;0;2;;;G;0;1;B;1;1;/;0;0查看分类表>
申请人上海理工大学申请人地址
上海市杨浦区军工路516号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海理工大学当前权利人上海理工大学
发明人盛斌;陈国华;罗露雯;黄元申
代理机构上海申汇专利代理有限公司代理人吴宝根
摘要
本发明涉及一种光栅的线密度测量方法,激光光源发出的激光经过光纤耦合器耦合后,经过单模2x2光纤耦合器耦合和光纤准直器准直后,照射到待测光栅表面后发生衍射,产生不同级次的衍射光,通过利用光纤减小激光照射到光栅上的照射面积,分别测得光栅测量点的0级和1级衍射光沿入射方向返回,两者之间的角度差刚好为1级衍射角α。根据测得的两束衍射光的角度差进行计算,得出刻线密度。测量稳定性高,光斑尺寸小,准直性好,测量精度高。在实际操作过程中,只需要将待测光栅置于电动位移台上,调节电动旋转台的角度位置,可得出待测光栅子午面上各个测量点的刻线密度。本发明即可对光栅更高精度的线密度测量,可用于平面光栅或曲率半径较大的凹面光栅。

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