一种密封环以及带有该密封环的机械密封装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201510636716.5
IPC分类号：F16J15/34
申请日期：
2015-10-01
申请人：
霍凤伟

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著录项信息

专利名称	一种密封环以及带有该密封环的机械密封装置
申请号	CN201510636716.5	申请日期	2015-10-01
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2015-12-30	公开/公告号	CN105202194A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	F16J15/34 ? IPC结构图谱： F 机械工程；照明；加热；武器；爆破 F1 一般工程 F16 工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热 F16J 活塞；缸；一般压力容器；密封 F16J15/00 密封 F16J15/16 在相对运动的表面之间（F16J 15/50，F16J 15/52优先；膜盒活塞入F16J 3/06；一般活塞环或类似结构的环密封件入F16J 9/00） F16J15/34 带有压向一个元件上的近于径向面的滑环	IPC分类号	F;1;6;J;1;5;/;3;4查看分类表>
申请人	霍凤伟	申请人地址	辽宁省大连市甘井子区汇善园10栋3单元902号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	霍凤伟	当前权利人	霍凤伟
发明人	霍凤伟
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明提供一种密封环，其特征是在密封端面上设有浅槽，浅槽的底面是由一圆周在已经产生了使密封端面变形为非平面的弹性变形的密封环上按运动规律运动时所形成的光滑连续曲面再经过弹性回复后所得到的曲面。本发明还提供了一种具有该密封环的机械密封装置，适用于各种形式的机械密封。与现有密封端面设有平底等深浅槽的密封环相比，在相同的条件下形成的流体薄膜的厚度或刚度更大，稳定性和可靠性更高，寿命更长；与现有的槽底为斜平面、槽底为多级平底台阶或多级斜底台阶的浅槽的密封环相比，本发明的浅槽底面的面形符合磨削加工表面创成原理，加工精度高，而且成本低。

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