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一种检测芯片当前层与前层是否对准的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710044856.9
  • IPC分类号:H01L21/66
  • 申请日期:
    2007-08-14
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称一种检测芯片当前层与前层是否对准的方法
申请号CN200710044856.9申请日期2007-08-14
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-02-18公开/公告号CN101369548
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/66IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人梁国亮;杨金坡;郭伟凯;高莲花
代理机构上海智信专利代理有限公司代理人王洁
摘要
一种检测芯片当前层与前层是否对准的方法,属于半导体工艺制程领域,包括如下步骤:步骤1,在待检测晶片表面做出标记,将待检测晶片的微影区曝光出当前层与对照层的标记;步骤2,利用迭对测量仪测量当前层和对照层的标记,并利用迭对测量仪的分析软件进行模拟计算,通过量测结果判断是否存在形变。本发明解决了芯片发生形变的问题,提高了芯片的性能,提高了工厂的生产效率,节约了人力和物力。

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