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改善的椭偏测量超薄膜的方法和装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200510117558.9
IPC分类号：G01N21/21;H01L21/66
申请日期：
2005-11-04
申请人：
国际商业机器公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	改善的椭偏测量超薄膜的方法和装置
申请号	CN200510117558.9	申请日期	2005-11-04
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2006-05-17	公开/公告号	CN1773250
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/21 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/17 入射光根据所测试的材料性质而改变的系统（其中所测试的材料因受到光学激发而引起入射光波长改变的入G01N 21/63）〔3〕 G01N21/21 影响偏振的性质（G01N 21/19优先）〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;2;1;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人	国际商业机器公司	申请人地址	美国纽约变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	国际商业机器公司	当前权利人	国际商业机器公司
发明人	C·斯特罗基亚-里韦拉
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	于静;杨晓光

摘要

一种进行超薄膜的椭偏测量的方法，包括导向入射到样品表面上的偏振光束，接收来自所述样品表面的初始反射光束，并一次或多次再次导向所述初始反射光束返回到所述样品表面上，以产生最终的反射光束。通过检偏器在探测器处接收所述最终的反射光束，以确定所述超薄膜的特征。

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