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基板处理装置和基板处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110054109.3
  • IPC分类号:G03F7/16
  • 申请日期:
    2021-01-15
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置和基板处理方法
申请号CN202110054109.3申请日期2021-01-15
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-07-27公开/公告号CN113176709A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/16IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;6查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人松永浩一
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇
摘要
本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法,能够进行基板面内的氟树脂膜的形成范围的调节。基板处理装置具备:疏水化处理部,其构成为进行疏水化处理,在该疏水化处理中通过疏水化处理用的疏水化气体的蒸镀来在基板的表面形成疏水化膜;紫外线照射部,其构成为通过向基板的背面中的去除区域照射紫外线,来去除在疏水化处理中形成于去除区域的疏水化膜;以及树脂膜形成部,其构成为在去除了疏水化膜后的去除区域形成氟树脂膜。

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