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高精度双面抛光机

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201120303839.4
  • IPC分类号:B24B13/00
  • 申请日期:
    2011-08-19
  • 申请人:
    上海中晶企业发展有限公司
著录项信息
专利名称高精度双面抛光机
申请号CN201120303839.4申请日期2011-08-19
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B13/00IPC分类号B;2;4;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人上海中晶企业发展有限公司申请人地址
上海市嘉定区南翔镇德力西路67号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海中晶企业发展有限公司当前权利人上海中晶企业发展有限公司
发明人陈健;陈福恭
代理机构上海天协和诚知识产权代理事务所代理人李琳
摘要
一种高精度双面抛光机,主要包括机座,上抛光盘,下抛光盘,工件盘;机座上方设有一桥架;一横向座架设于该桥架的横梁上,一由一水平移动机构驱动、沿横梁水平往复移动的水平座架设于该桥架的横梁上;一工件盘旋转与移动机构设于所述水平座架上,该机构包括一工件盘电机与一由该电机驱动的主动轮及一从动轮;一由升降机构驱动的升降座架设于所述水平座架上,所述升降座架的升降机构由升降手轮、升降丝杆和升降导轨组成;一上抛光盘旋转机构设于所述升降座架上,该机构包括上抛光盘电机、偏心盘和上抛光盘连接头,上抛光盘固定于所述连接头上。本实用新型可通过多个调整点将设备调整至最优状态,提高加工精度和加工效率,并可降低劳动强度。

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