主动平移式双面抛光机

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专利名称	主动平移式双面抛光机
申请号	CN201310193300.1	申请日期	2013-05-15
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2013-09-04	公开/公告号	CN103273401A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B13/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B13/00 为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件（光学工件如透镜，棱镜磨边入B24B 9/14）〔2〕	IPC分类号	B;2;4;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人	成都精密光学工程研究中心	申请人地址	四川省成都市高新区科园一路3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成都精密光学工程研究中心	当前权利人	成都精密光学工程研究中心
发明人	马平; 鄢定尧; 何曼泽; 黄颖; 鲍振军; 周佩璠; 赵方; 赵恒; 谢磊; 黄军勇
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种主动平移式双面抛光机，属于光学元件加工领域。它包括下盘、工件环、上盘、机座、主动轮和主臂，机座一侧设有可前后移动的平移装置；平移装置上装有蟹钳和挡杆。本发明与传统的双面抛光机相比，集平移抛、环形抛于一体，适用于对加工痕迹有特殊要求的大口径超薄光学元件的抛光。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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