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一种可优化重复性的双光束测光装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202021030341.0
  • IPC分类号:G01J3/46;G01J3/02
  • 申请日期:
    2020-06-05
  • 申请人:
    深圳市威福光电科技有限公司
著录项信息
专利名称一种可优化重复性的双光束测光装置
申请号CN202021030341.0申请日期2020-06-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01J3/46IPC分类号G;0;1;J;3;/;4;6;;;G;0;1;J;3;/;0;2查看分类表>
申请人深圳市威福光电科技有限公司申请人地址
广东省深圳市龙华区龙华街道油松社区水斗新围村品创源科技园B栋5层502 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市威福光电科技有限公司当前权利人深圳市威福光电科技有限公司
发明人彭磊;黄洁锋;李生佩
代理机构深圳市中科创为专利代理有限公司代理人暂无
摘要
本实用新型公开一种可优化重复性的双光束测光装置,包括积分球、电控光调制器、测试光路以及参考光路;积分球包括光源、被测窗口、测试出射窗口、参考出射窗口;所述测试出射光窗口与被测窗口分别位于所述积分球上下方的球面上;所述参考出射窗口与参考光路组成的光路光轴落在所述积分球内壁上;所述电控光调制器可以通过电控方式实现透明、雾化两种状态的切换。本实用新型提供的可优化重复性的双光束测光装置仅采用一个积分球的结构实现有效校准两个传感器的不一致变化的功能,其结构简单、装配方便、易于微型化。

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