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喷墨头基片的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710080082.5
  • IPC分类号:B41J2/16;B41J2/14
  • 申请日期:
    2007-03-07
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称喷墨头基片的制造方法
申请号CN200710080082.5申请日期2007-03-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-09-12公开/公告号CN101032885
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41J2/16IPC分类号B;4;1;J;2;/;1;6;;;B;4;1;J;2;/;1;4查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京都大田区下丸子三丁目30番2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人坂井稔康;小山修司;小野贤二;山室纯
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;权鲜枝
摘要
本发明提供一种喷墨头基片和喷墨头及其制造方法。该喷墨头基片的制造方法包括在硅基片中形成供墨口,该方法包括:在基片的一面形成蚀刻掩模层的步骤,该蚀刻掩模层在与供墨口相对应的位置处具有开口;沿开口的长度方向形成至少两行通过蚀刻掩模层的开口的未穿透孔的步骤;以及通过在开口中对基片进行晶体各向异性蚀刻来形成供墨口的步骤。

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