一种匀胶机用免清洗罩

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201620038287.1
IPC分类号：B05C11/00
申请日期：
2016-01-15
申请人：
苏州美图半导体技术有限公司

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著录项信息

专利名称	一种匀胶机用免清洗罩
申请号	CN201620038287.1	申请日期	2016-01-15
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B05C11/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B05 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕 B05C 一般对表面涂布液体或其他流体的装置（喷射装置、雾化装置、喷嘴入B05B；把液体或其他流体涂布于物体上的静电喷射装置入B05B 5/08）〔2〕 B05C11/00 在B05C 1/00至B05C 9/00中没有专门列入的部件、零件及附件（B05C 19/00优先；操纵及夹持工件的方法入B05C 13/00；设备的屏蔽、喷雾装置入B05C 15/00）〔2〕	IPC分类号	B;0;5;C;1;1;/;0;0查看分类表>
申请人	苏州美图半导体技术有限公司	申请人地址	江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A7楼506室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	苏州美图半导体技术有限公司	当前权利人	苏州美图半导体技术有限公司
发明人	王云翔
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型涉及到微纳米技术领域，尤其涉及一种匀胶机用免清洗罩。该匀胶机包括罩底、罩沿和安装孔，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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