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纳米结构图案的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710142318.3
IPC分类号：G03F7/00
申请日期：
2007-08-13
申请人：
罗门哈斯丹麦金融有限公司

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	纳米结构图案的制造方法
申请号	CN200710142318.3	申请日期	2007-08-13
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-05-07	公开/公告号	CN101174085
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	罗门哈斯丹麦金融有限公司	申请人地址	丹麦哥本哈根变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	罗门哈斯丹麦金融有限公司	当前权利人	罗门哈斯丹麦金融有限公司
发明人	R·贾甘纳坦;Y·Q·饶;X·－D·米
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	沙永生

摘要

本发明涉及在基片上形成纳米结构图案的方法。所述方法包括：提供基片；用功能材料涂覆所述基片，以形成功能材料层；将至少一种A聚合物链和B聚合物链的嵌段共聚物涂覆在所述功能材料层上，以形成层；干燥所述嵌段共聚物，以形成有序的纳米域；除去已干燥的嵌段共聚物的A聚合物链，以形成空隙；然后从A聚合物链已经被除去的地方除去所述功能材料。

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