用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物，以及抗蚀剂下层组合物

发明专利有效专利

申请号：
CN201010613154.X
IPC分类号：C07C33/26;C07C33/36;G03F7/11
申请日期：
2010-12-29
申请人：
第一毛织株式会社

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著录项信息

专利名称	用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物，以及抗蚀剂下层组合物
申请号	CN201010613154.X	申请日期	2010-12-29
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2011-07-06	公开/公告号	CN102115426A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07C33/26 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07C 无环或碳环化合物（高分子化合物入C08；有机化合物的电解或电泳生产入C25B 3/00，C25B 7/00） C07C33/00 非环碳原子上连接羟基或氧-金属基的不饱和化合物 C07C33/26 仅六元芳环作为环部的多元芳醇〔3〕	IPC分类号	C;0;7;C;3;3;/;2;6;;;C;0;7;C;3;3;/;3;6;;;G;0;3;F;7;/;1;1查看分类表>
申请人	第一毛织株式会社	申请人地址	韩国庆尚北道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	第一毛织株式会社	当前权利人	第一毛织株式会社
发明人	赵诚昱;田桓承;金旼秀;吴丞培;宋知胤
代理机构	北京康信知识产权代理有限责任公司	代理人	李丙林;张英

摘要

本发明披露了由以下化学式1表示的含芳香环化合物和包含所述化合物的抗蚀剂的下层组合物。在化学式1中，每个取代基与具体实施方式中定义的相同。所述含芳香环化合物可以具有优异的光学性能、机械特性和蚀刻选择性特性，并且可以利用旋涂涂覆方法应用。它对于利用短波长的光刻过程也是有用的，并显示出最小的残留酸含量。本发明还提供了利用抗蚀剂的下层组合物图案化器件的方法。

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