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一种浸没式光刻机的温度控制方法及装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011513098.2
  • IPC分类号:G03F7/20;G05D23/20
  • 申请日期:
    2020-12-20
  • 申请人:
    华中科技大学;武汉智能装备工业技术研究院有限公司
著录项信息
专利名称一种浸没式光刻机的温度控制方法及装置
申请号CN202011513098.2申请日期2020-12-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-03-05公开/公告号CN112445084A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;5;D;2;3;/;2;0查看分类表>
申请人华中科技大学;武汉智能装备工业技术研究院有限公司申请人地址
湖北省武汉市珞喻路1037号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华中科技大学,武汉智能装备工业技术研究院有限公司当前权利人华中科技大学,武汉智能装备工业技术研究院有限公司
发明人李小平;曹迪
代理机构武汉华之喻知识产权代理有限公司代理人邓彦彦;李欢
摘要
本发明提供一种浸没式光刻机的温度控制方法及装置,包括:通过热交换器使得PCW与光刻机UPW进行换热,以及利用加热器对UPW加热,以对UPW升温,对UPW温度进行粗调节时,基于检测的三个温度值和UPW温度控制目标确定UPW温度的轨迹、PCW的流量控制模型以及加热器的功率控制模型;采用模糊规则自适应修正PCW的流量控制模型以及加热器的功率控制模型;将粗调节后的UPW经过远传管路,通入光刻机内部经过半导体制冷片调节后分为两路UPW注液,通过两个加热器分别对两路UPW注液加热;对UPW温度进行精调节时,制冷片的调节量由两路UPW注液两个加热器的功率、两路UPW注液流量以及两路UPW注液的温度设定值确定。本发明提高了光刻机的温度控制精度。

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