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一种提升内量子效率的LED外延生长方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201710681969.3
  • IPC分类号:H01L33/00;H01L33/06;H01L33/20
  • 申请日期:
    2017-08-10
  • 申请人:
    湘能华磊光电股份有限公司
著录项信息
专利名称一种提升内量子效率的LED外延生长方法
申请号CN201710681969.3申请日期2017-08-10
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2017-11-17公开/公告号CN107359224A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/00IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;0;0;;;H;0;1;L;3;3;/;0;6;;;H;0;1;L;3;3;/;2;0查看分类表>
申请人湘能华磊光电股份有限公司申请人地址
湖南省郴州市苏仙区白露塘镇有色金属产业园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人湘能华磊光电股份有限公司当前权利人湘能华磊光电股份有限公司
发明人徐平
代理机构北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人于淼
摘要
本申请提供了一种提升内量子效率的LED外延生长方法,包括:在温度为750‑900℃,反应腔压力为800‑950mbar,通入50000‑55000sccm的NH3、50‑70sccm的TMGa、90‑110L/min的H2、1200‑1400sccm的TMAl、800sccm‑1050sccm的CP2Mg的条件下,生长一层AlGaN:Mg薄垒层,通过在多量子阱层靠近P型层的一侧引入AlGaN:Mg薄垒层,即形成不对称阱垒结构,用来抑制电子泄露出量子阱发光区,抑制电子漏电流的产生,并能有效推动空穴注入多量子阱层,增加多量子阱层的电子空穴对数量,增强发光辐射效率,从而提升LED的亮度。

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