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低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料

发明专利有效专利

申请号：
CN200780041914.0
IPC分类号：C09D183/08;B05D7/24;C09D5/00;C09D7/12;C09D183/02;G02B1/11
申请日期：
2007-11-13
申请人：
日产化学工业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料
申请号	CN200780041914.0	申请日期	2007-11-13
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-09-16	公开/公告号	CN101535430
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09D183/08 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用（化妆品入A61K，一般将液体或其他流动物料涂到表面上的方法入B05D；木材着色入B27K 5/02；釉料或搪瓷釉入C03C；天然树脂、虫胶清漆、干性油、催干剂、松节油本身入C09F；除虫胶清漆外的抛光组合物、滑雪屐蜡入C09G；黏合剂或用作黏合剂的物质入C09J；用于接头或盖的密封或包装材料入C09K 3/10；用于防止泄漏的材料入C09K 3/12；电解或电泳生成镀层的方法入C25D）〔5〕 C09D183/00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物〔5〕 C09D183/04 聚硅氧烷〔5〕 C09D183/08 含有与除碳、氢和氧外的原子的有机基团连接的硅的〔5〕	IPC分类号	C;0;9;D;1;8;3;/;0;8;;;B;0;5;D;7;/;2;4;;;C;0;9;D;5;/;0;0;;;C;0;9;D;7;/;1;2;;;C;0;9;D;1;8;3;/;0;2;;;G;0;2;B;1;/;1;1查看分类表>
申请人	日产化学工业株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日产化学工业株式会社	当前权利人	日产化学工业株式会社
发明人	谷好浩;元山贤一
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	范征

摘要

本发明提供可在较低温度下固化而形成高硬度的耐擦伤性良好的具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有含氟有机基团与硅原子结合的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶于有机溶剂(C)而形成。

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