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载置台机构、等离子体处理装置和电压施加方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910203454.8
  • IPC分类号:H01J37/20;H01J37/32
  • 申请日期:
    2009-05-21
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称载置台机构、等离子体处理装置和电压施加方法
申请号CN200910203454.8申请日期2009-05-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-11-25公开/公告号CN101587813
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/20IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;2;0;;;H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人古屋敦城;东条利洋
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳
摘要
本发明提供载置台机构、等离子体处理装置和电压施加方法。该载置台机构通过减小在向吸盘电极施加直流电压时和切断直流电压时的吸盘等效电路的时间常数,使电荷的蓄积和电荷的释放分别得以迅速地进行。在处理容器(52)内载置被进行等离子体处理的被处理体(W)的载置台机构,设置有载置台(84)、在内部设置有吸盘电极(114)的静电吸盘(86)、经供电线(116)连接的直流高压电源120、插设在供电线上的吸盘用开关部(124)、用于检测载置台的直流成分的直流成分检测电路(96)、旁通直流成分检测电路的旁路线(108)、插设在旁路线的中途用于使直流成分检测电路旁通而使载置台接地的旁路用开关部(110)、和控制开关部的开关控制部(112)。

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