用于在被入射电磁波照射时辐射至少一个出射电磁波的设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201980075164.1
IPC分类号：G02B27/56;G21K1/00
申请日期：
2019-09-27
申请人：
交互数字CE专利控股公司

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专利名称	用于在被入射电磁波照射时辐射至少一个出射电磁波的设备
申请号	CN201980075164.1	申请日期	2019-09-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-25	公开/公告号	CN113039475A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B27/56 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B27/00 其他光学系统；其他光学仪器（使商店橱窗或陈列柜产生特别光学效果的装置入A47F，例如，A47F 11/06；光学玩具入A63H 33/22；以具有特殊光学效果为特征的设计或图样入B44F 1/00） G02B27/56 利用损耗波即非均匀波的光学〔3〕	IPC分类号	G;0;2;B;2;7;/;5;6;;;G;2;1;K;1;/;0;0查看分类表>
申请人	交互数字CE专利控股公司	申请人地址	法国巴黎变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	交互数字CE专利控股公司	当前权利人	交互数字CE专利控股公司
发明人	B·瓦吉斯;瓦尔特·德拉齐克;劳伦特·布隆德;米特拉·达姆加尼安
代理机构	北京同立钧成知识产权代理有限公司	代理人	杨贝贝;臧建明

摘要

提出了一种设备(200)，其包括具有第一折射率n1的第一材料的第一部分(101)和具有比n1高的第二折射率n2的第二材料的第二部分(102)。这种设备进一步包括在第一部分和第二部分之间的至少一个接触区域(110)，当设备被入射电磁波(100i)照射时，辐射出射电磁波(100o)。所述至少一个接触区域沿入射电磁波的传播方向的投影具有小于临界高度的1.2倍的非零高度，所述临界高度等于入射电磁波的真空波长除以第二折射率n2和第一折射率n1之间的差值。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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