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对放射性污染的表面去污的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201080003157.X
  • IPC分类号:G21F9/00;G21F9/28;G21F9/30
  • 申请日期:
    2010-02-17
  • 申请人:
    阿利发NP有限公司
著录项信息
专利名称对放射性污染的表面去污的方法
申请号CN201080003157.X申请日期2010-02-17
法律状态暂无申报国家暂无
公开/公告日2011-10-05公开/公告号CN102209992A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G21F9/00IPC分类号G;2;1;F;9;/;0;0;;;G;2;1;F;9;/;2;8;;;G;2;1;F;9;/;3;0查看分类表>
申请人阿利发NP有限公司申请人地址
德国埃尔兰根 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人法玛通有限责任公司当前权利人法玛通有限责任公司
发明人R·加森;L·塞姆派尔贝尔达;W·施韦格霍弗;B·蔡勒
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人柳冀
摘要
本发明涉及用于对金属零件表面进行化学去污的方法,在所述方法的第一处理步骤中,用包含有机去污酸的第一水性处理溶液将在零件上通过零件材料的腐蚀产生的氧化物层从所述零件表面脱除,并在随后的第二处理步骤中用一种水溶液处理至少部分清除了氧化物层的表面,所述水溶液包含用于去除附着在表面的颗粒的有效组分,其中所述有效组分由至少一种选自磺酸、膦酸、羧酸和这些酸的盐的阴离子型表面活性剂组成。

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